Бөөний AlTa Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальсан PVD бүрээсийг захиалгаар хийсэн үйлдвэрлэгч ба нийлүүлэгч

Хөнгөн цагаан-тантал

AlTa Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальсан PVD бүрэх захиалгаар хийсэн Онцлох зураг

Богино тайлбар:

Ангилал	Хайлш цацах зорилт
Химийн томъёо	AlTa
Найрлага	Хөнгөн цагаан-тантал
Цэвэр байдал	99.9%，99.95%，99.99%
Хэлбэр	Хавтан, баганын зорилт, нуман катод, захиалгаар хийсэн
Үйлдвэрлэлийн үйл явц	Вакуум хайлуулах，PM
Боломжтой хэмжээ	L≤200мм，W≤200мм

Бидэн рүү имэйл илгээнэ үү

Бүтээгдэхүүний дэлгэрэнгүй

Бүтээгдэхүүний шошго

Хөнгөн цагаан, тантал нунтаг холих эсвэл вакуум хайлуулж, дараа нь бүрэн нягтралтай болтол нь нягтруулж бэлтгэдэг. Ингэж нягтруулсан материалыг нэмэлтээр шингэлж, дараа нь хүссэн хэлбэрт оруулна.

Хөнгөн цагаан тантал цацах зорилго нь өндөр цэвэршилттэй, нэгэн төрлийн бичил бүтэцтэй, маш сайн дамжуулалттай. Энэ нь хавтгай дэлгэцийн үйлдвэрлэлд нимгэн хальс үүсгэхэд өргөн хэрэглэгддэг. Өндөр температурт тохирох чанарыг сайжруулахын тулд өндөр хүчин чадалтай титан хайлш үйлдвэрлэхийн тулд хөнгөн цагаан тантал нэмж болно.

Аль-Та хайлшийн хольцын агууламж

найрлага	Агуулга（%）
	Ta	Fe	Si	C	O
AlTa60	55.0~65.0	≤0.05	≤0.02	≤0.01	≤0.05
AlTa70	65.0~75.0	≤0.05	≤0.02	≤0.01	≤0.05

Rich Special Materials нь шүрших зориулалтын үйлдвэрлэлийн чиглэлээр мэргэшсэн бөгөөд үйлчлүүлэгчдийн техникийн дагуу Хөнгөн цагаан тантал цацах материалыг үйлдвэрлэх боломжтой. Манай бүтээгдэхүүнүүд нь маш сайн механик шинж чанартай, нэгэн төрлийн бүтэцтэй, өнгөлсөн гадаргуутай, ялгадасгүй, нүх сүв, ан цавгүй. Дэлгэрэнгүй мэдээлэл авахыг хүсвэл бидэнтэй холбогдоно уу.

Өмнөх: AlTi хайлш цацах Зорилтот өндөр цэвэршилттэй

Дараа нь: AlCu Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальсан PVD бүрэх захиалгаар хийсэн