Добредојдовте на нашите веб-страници!

Парчиња силицид од волфрам

Парчиња силицид од волфрам

Краток опис:

Категорија Cераmic Sputtering Target
Хемиска формула WSi2
Состав Волфрам силицид ПIceces
Чистота 99,9%,99,95%,99,99%
Облик Пелети, снегулки, гранули, листови

Детали за производот

Ознаки на производи

Волфрам силицид WSi2 се користи како материјал од електричен шок во микроелектрониката, шантирање на полисиликонски жици, антиоксидациски премаз и отпорна жица. Волфрам силицидот се користи како контактен материјал во микроелектрониката, со отпорност од 60-80μΩcm. Се формира на 1000°C. Обично се користи како шант за полисиликонски линии за да се зголеми неговата спроводливост и да се зголеми брзината на сигналот. Волфрам-силицидниот слој може да се подготви со хемиско таложење на пареа, како што е таложење на пареа. Користете моносилан или дихлоросилан и волфрам хексафлуорид како суровина гас. Депонираниот филм не е стехиометриски и бара жарење за да се трансформира во попроводлива стехиометриска форма.

Волфрам силицид може да го замени претходниот волфрамски филм. Волфрам силицидот исто така се користи како преграден слој помеѓу силициумот и другите метали.

Волфрамово силицидот е исто така многу вреден во микроелектромеханичките системи, меѓу кои силицидот на волфрам главно се користи како тенок филм за производство на микроциркути. За таа цел, волфрамово силицидниот филм може да се гравира со плазма користејќи, на пример, силицид.

СТАВКА Хемиски состав
Елемент W C P Fe S Si
содржина (wt%) 76,22 0,01 0,001 0,12 0,004 Биланс

Rich Special Materials е специјализиран за производство на цел за распрскување и може да произведе силицид од волфрампарчињаспоред спецификациите на клиентите. За повеќе информации, ве молиме контактирајте не.


  • Претходно:
  • Следно: