Некои клиенти прашаа за цели за прскање силикон. Сега, колегите од Одделот за технологија на RSM ќе ги анализираат целите за распрскување на силикон за вас.
Целта за прскање со силикон е направена со прскање на метал од силиконски ингот. Целта може да се произведува со различни процеси и методи, вклучувајќи галванизација, распрскување и таложење на пареа. Претпочитаните отелотворувања дополнително обезбедуваат дополнителни процеси на чистење и офорт за да се постигнат посакуваните услови на површината. Произведената цел е многу рефлектирачка, со грубост помала од 500 ангстроми и релативно голема брзина на согорување. Филмот подготвен од силиконската цел има низок број на честички.
Целта за распрскување на силиконот се користи за таложење тенки филмови на материјали базирани на силикон. Тие најчесто се користат во апликации за екрани, полупроводници, оптички, оптички комуникации и обложување на стакло. Тие се исто така погодни за гравирање на високотехнолошки компоненти. Целите за прскање со силициум N-тип може да се користат за различни цели. Применливо е на многу полиња, вклучувајќи електроника, соларни ќелии, полупроводници и дисплеи.
Силиконската цел за прскање е додаток за распрскување кој се користи за таложење материјали на површината. Обично, се состои од атоми на силикон. Процесот на распрскување бара прецизна количина на материјал, што може да биде голем предизвик. Користењето на идеална опрема за прскање е единствениот начин да се направат компоненти базирани на силикон. Вреди да се напомене дека силиконската цел за прскање не се користи во процесот на распрскување.
Време на објавување: Октомври-24-2022 година