Трговија на големо со FeCoTa Sputtering Target со висока чистота со тенок филм Pvd слој Производител и добавувач

Железен кобалт тантал

FeCoTa Sputtering Target Pvd-облога со тенок филм со висока чистота, избрана слика по нарачка

Краток опис:

Категорија	Целта за распрскување на легура
Хемиска формула	FeCoTa
Состав	Железен кобалт тантал
Чистота	99,9%, 99,95%, 99,99%
Облик	Плочи, цели на колони, лачни катоди, прилагодено
Процес на производство	Топење во вакуум, PM
Достапна големина	L≤200mm, W≤200mm

Испратете ни е-пошта

Детали за производот

Ознаки на производи

Целите од Железен кобалт Тантал обично се достапни во кружна форма и критични материјали од тенок филм од вертикални магнетни медиуми за снимање. Значителната количина на Тантал присутна во легурата би резултирала со сегрегација и присуство на нерастворени честички. Ние користиме уникатен производствен метод кој може да обезбеди хомогеност на микроструктурата и да ги подобри механичките својства на материјалите.

Име на производ		FeCoTa
Fe/wt%		Биланс	Биланс	Биланс
Co/wt%		21,6±0,5	21,9±0,5	20,2±0,5
Ta/wt%		41,1±0,8	39,4±0,8	44,3±0,8
Содржина на метални нечистотии(ppm)	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
Содржина на нечистотии на гас(ppm)	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials е специјализиран за Производство на таргет за распрскување и може да произведе материјали за распрскување со железо кобалт тантал според спецификациите на клиентите. За повеќе информации, ве молиме контактирајте не.

Претходно: FeCo Sputtering Target Pvd слој со тенок филм со висока чистота Направен по нарачка

Следно: FeSi Sputtering Target Pvd слој со тенок филм со висока чистота Направен по нарачка