CrAl Alloy Sputtering Target со висока чистота тенок филм PVD облога Прилагодено
Хром алуминиум
Производството на хромирани алуминиумски цели за распрскување ги опфаќа следните чекори:
1. Мелење и мешање во прав.
2. Третман со врело изостатско пресување за да се добијат полупроизводи.
3. Обработка на целниот материјал за распрскување на груба легура на хром алуминиум за да се добие целниот материјал за прскање од легура на хром алуминиум.
За време на процесот на таложење на целите за распрскување CrAl, се формира тврда обвивка од алуминиум-хром-нитрид (AlCrN). Овој слој покажува висока цврстина и својства на отпорност на оксидација дури и при висока температура. Секачите би можеле да работат со големи доводи за да ја зголемат продуктивноста и да го подигнат квалитетот при користење на CNC машини.
Нашите типични цели AlCr и нивните својства
| Cr-70Alна% | Cr-60Alна% | Cr-50Alна% | |
| Чистота (%) | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 |
| Густина(g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4,55 |
| Gдожд Големина(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Процес | КОЛК | КОЛК | КОЛК |
Rich Special Materials е специјализиран за Производство на мета за распрскување и може да произведува материјали за распрскување од алуминиум хром според спецификациите на клиентите. Нашите производи се карактеризираат со одлични механички својства, хомогена структура, полирана површина без сегрегација, пори или пукнатини. За повеќе информации, ве молиме контактирајте не.
Категории на производи
-
AlCu Sputtering Target PV со тенок филм со висока чистота...
-
AlNi легури Sputtering Целна висока чистота Тенки F...
-
AlSiCu легури Sputtering Целна висока чистота Тенки...
-
AlZn Sputtering Target PV со тенок филм со висока чистота...
-
AlSnCu Sputtering Target тенок филм со висока чистота ...
-
AlNb легури sputtering Целна висока чистота Тенки F...