Vacuum coating dia manondro ny fanafanana sy ny evaporating ny etona loharano ao amin'ny banga na sputtering amin'ny accelerated Ion baomba, ary mametraka izany eo amin'ny ambonin'ny substrate mba hamorona tokana-sosona na multi-sosona sarimihetsika. Inona no fitsipiky ny vacuum coating? Manaraka izany dia hampahafantatra izany amintsika ny tonian’ny RSM.
1. Vacuum evaporation coating
Ny coating evaporation dia mitaky ny elanelana misy eo amin'ny molekiola etona na atôma avy amin'ny loharanon'ny etona sy ny substrate hosaronana dia tokony ho latsaky ny lalana malalaka eo ho eo amin'ireo molekiola entona sisa ao amin'ny efitrano fanosotra, mba hahazoana antoka fa ny molekiola etona amin'ny Ny etona dia mety hahatratra ny ambonin'ny substrate tsy misy fifandonana. Ataovy azo antoka fa madio sy mafy orina ilay sarimihetsika, ary tsy ho oxidize ny etona.
2. Vacuum sputtering coating
Ao amin'ny banga, rehefa mifandona amin'ny solida ny ion accelerated, amin'ny lafiny iray dia simba ny kristaly, amin'ny lafiny iray, mifandona amin'ireo atoma mandrafitra ny kristaly, ary farany ny atôma na molekiola eo ambonin'ny velarantany. mitsambikina ety ivelany. Ny fitaovana sputtered dia voapetaka eo amin'ny substrate mba hamorona sarimihetsika manify, izay antsoina hoe vacuum sputter plating. Misy fomba maro sputtering, anisan'izany ny diode sputtering no voalohany indrindra. Araka ny kendrena cathode samy hafa, dia azo zaraina ho mivantana ankehitriny (DC) sy avo matetika (RF). Ny isan'ny atôma mipoitra amin'ny fiatraikany amin'ny faritra kendrena miaraka amin'ny ion dia antsoina hoe taham-pivoarana. Miaraka amin'ny tahan'ny sputtering avo, ny hafainganam-pandehan'ny famoronana sarimihetsika dia haingana. Ny tahan'ny sputtering dia mifandraika amin'ny angovo sy ny karazana ion ary ny karazana fitaovana kendrena. Amin'ny ankapobeny dia mitombo ny tahan'ny sputtering miaraka amin'ny fitomboan'ny angovo ion'olombelona, ary ambony kokoa ny tahan'ny sputtering metaly sarobidy.
Fotoana fandefasana: Jul-14-2022