AlSiCu Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Aluminum Silicon Copper firaka dia noforonina amin'ny alalan'ny vacuum miempo sy ny deformation teknika. Izy io dia manana fahadiovana avo, microstructure homogeneous ary habe voadio ary ampiasaina amin'ny fampiharana sy indostria maro, ao anatin'izany ny PVD coating, singa lafaoro banga, X-ray sputtering tanjona. Izy io ihany koa no fitaovana fametahana ho an'ny Circuit Integrated Large Scale ho an'ny fampifangaroana tsy manam-paharoa amin'ny toetra irina, ao anatin'izany ny lanjany maivana, ny conductivity mafana tsara, ny hamafin'ny henjana ary ny fanoherana ny harafesina.

Rich Special Materials manokana amin'ny fanamboarana ny Sputtering Target ary afaka mamokatra Aluminum Silicon Copper Sputtering Materials araka ny mpanjifa 'famaritana. Ny vokatray dia manana toetra mekanika tsara, rafitra homogeneous, ambonin'ny poloney tsy misy fisarahana, pores na triatra. Raha mila fanazavana fanampiny dia mifandraisa aminay.