ຂາຍສົ່ງ WMo Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງບາງ Pvd ການເຄືອບ Custom Made ຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ

Tungsten Molybdenum Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ

WMo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made Featured Image

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ປະເພດ	Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ
ສູດເຄມີ	WMo
ອົງປະກອບ	Tungsten Molybdenum
ຄວາມບໍລິສຸດ	99.9%, 99.95%, 99.99%
ຮູບຮ່າງ	ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ
ຂະບວນການຜະລິດ	ການລະລາຍສູນຍາກາດ, PM
ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້	L≤200mm,W≤200mm

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ລາຍລະອຽດເປົ້າໝາຍຂອງ Tungsten Molybdenum Sputtering

Tungsten molybdenum sputtering target ແມ່ນປະເພດຂອງໂລຫະປະສົມ sputtering ເປົ້າຫມາຍປະກອບດ້ວຍ molybdenum ແລະ tungsten.

Molybdenum ແມ່ນອົງປະກອບທາງເຄມີທີ່ມາຈາກພາສາກະເຣັກ 'molybdos' ຊຶ່ງຫມາຍຄວາມວ່ານໍາ. ມັນໄດ້ຖືກກ່າວເຖິງຄັ້ງທໍາອິດໃນປີ 1778 ແລະສັງເກດເຫັນໂດຍ W. Scheele. ການໂດດດ່ຽວໄດ້ຖືກບັນລຸຜົນຕໍ່ມາແລະປະກາດໂດຍ J. Hjelm. “ໂມ” ແມ່ນສັນຍາລັກທາງເຄມີຂອງໂມລິບເດັນ. ຈໍານວນປະລໍາມະນູຂອງມັນຢູ່ໃນຕາຕະລາງໄລຍະເວລາຂອງອົງປະກອບແມ່ນ 42 ທີ່ມີສະຖານທີ່ຢູ່ໃນໄລຍະເວລາ 5 ແລະກຸ່ມ 6, ເປັນຂອງ d-block. ມະຫາຊົນຂອງອະຕອມຂອງໂມລີບເດັນແມ່ນ 95.94(2) Dalton, ຕົວເລກໃນວົງເລັບຊີ້ບອກເຖິງຄວາມບໍ່ແນ່ນອນ.

Tungsten, ຍັງເອີ້ນວ່າ wolfram; wolframium, ແມ່ນອົງປະກອບທາງເຄມີທີ່ມາຈາກພາສາຊູແອັດ 'tung sten' ຊຶ່ງຫມາຍຄວາມວ່າຫີນຫນັກ (W ແມ່ນ wolfram, ຊື່ເກົ່າຂອງແຮ່ທາດ tungsten wolframite). ມັນໄດ້ຖືກກ່າວເຖິງຄັ້ງທໍາອິດໃນ 1781 ແລະສັງເກດເຫັນໂດຍ T. Bergman. ການໂດດດ່ຽວໄດ້ຖືກບັນລຸຜົນຕໍ່ມາແລະປະກາດໂດຍ J. ແລະ F. Elhuyar. “W” ແມ່ນສັນຍາລັກທາງເຄມີ canonical ຂອງ tungsten. ຈໍານວນປະລໍາມະນູຂອງມັນຢູ່ໃນຕາຕະລາງໄລຍະເວລາຂອງອົງປະກອບແມ່ນ 74 ທີ່ມີສະຖານທີ່ຢູ່ໃນໄລຍະເວລາ 6 ແລະກຸ່ມ 6, ເປັນຂອງ d-block. ມວນສານອາຕອມຂອງ tungsten ແມ່ນ 183.84(1) Dalton, ຕົວເລກໃນວົງເລັບຊີ້ບອກເຖິງຄວາມບໍ່ແນ່ນອນ.

ການຫຸ້ມຫໍ່ເປົ້າຫມາຍ Tungsten Molybdenum

Tungsten molybdenum sputter ເປົ້າຫມາຍຂອງພວກເຮົາຖືກຕິດປ້າຍໄວ້ຢ່າງຊັດເຈນແລະຕິດສະຫຼາກພາຍນອກເພື່ອຮັບປະກັນການກໍານົດປະສິດທິພາບແລະການຄວບຄຸມຄຸນນະພາບ. ມີຄວາມລະມັດລະວັງຫຼາຍເພື່ອຫຼີກລ່ຽງຄວາມເສຍຫາຍທີ່ອາດຈະເກີດຂຶ້ນໃນລະຫວ່າງການເກັບຮັກສາ ຫຼືການຂົນສົ່ງ.

ໄດ້ຮັບການຕິດຕໍ່

ເປົ້າໝາຍ sputtering tungsten molybdenum ຂອງ RSM ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແລະເປັນເອກະພາບ. ພວກເຂົາເຈົ້າມີຢູ່ໃນຮູບແບບຕ່າງໆ, ຄວາມບໍລິສຸດ, ຂະຫນາດ, ແລະລາຄາ. ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດວັດສະດຸເຄືອບເງົາບາງທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງດ້ວຍປະສິດທິພາບທີ່ດີເລີດເຊັ່ນດຽວກັນກັບຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງເມັດພືດສະເລ່ຍຂະຫນາດນ້ອຍທີ່ສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ສໍາລັບການເຄືອບ mold, ການຕົກແຕ່ງ, ຊິ້ນສ່ວນລົດໃຫຍ່, ແກ້ວຕ່ໍາ E, ວົງຈອນປະສົມປະສານ semi-conductor, ຮູບເງົາບາງໆ. ຄວາມຕ້ານທານ, ຈໍສະແດງຜົນກາຟິກ, ຍານອາວະກາດ, ການບັນທຶກແມ່ເຫຼັກ, ຫນ້າຈໍສໍາຜັດ, ຫມໍ້ໄຟແສງຕາເວັນຮູບເງົາບາງໆແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອື່ນໆຂອງ vapor deposition (PVD). ກະລຸນາສົ່ງໃຫ້ພວກເຮົາສອບຖາມສໍາລັບລາຄາໃນປະຈຸບັນກ່ຽວກັບເປົ້າຫມາຍ sputtering ແລະອຸປະກອນການຝາກອື່ນໆທີ່ບໍ່ມີຢູ່ໃນລາຍການ.

ທີ່ຜ່ານມາ: WRe Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດຄວາມບໍລິສຸດຄວາມບໍລິສຸດສູງຮູບເງົາບາງ Pvd ການເຄືອບທີ່ເຮັດໃຫ້ເອງ

ຕໍ່ໄປ: WNi Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd Coating Custom Made