ຂາຍສົ່ງ NiV Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd Coating Custom Made ຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ

ນິກເກິລວາເນດຽມ

NiV Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ຮູບເງົາບາງໆ ເຄືອບ Pvd ປັບແຕ່ງຮູບພາບທີ່ໂດດເດັ່ນ

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ປະເພດ	Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ
ສູດເຄມີ	NiV
ອົງປະກອບ	ນິກເກິລວາເນດຽມ
ຄວາມບໍລິສຸດ	99.9%, 99.95%, 99.99%
ຮູບຮ່າງ	ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ
ຂະບວນການຜະລິດ	ການລະລາຍສູນຍາກາດ
ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້	L≤4000mm,W≤350mm

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ລາຍລະອຽດເປົ້າໝາຍຂອງ Nickel Vanadium Sputtering

ຄໍາມັກຈະຖືກນໍາໄປໃຊ້ໃນການຕົກຄ້າງຂອງຊັ້ນວົງຈອນປະສົມປະສານ, ແຕ່ສານປະສົມ AuSi ທີ່ລະລາຍຕ່ໍາມັກຈະຖືກສ້າງຕັ້ງຂຶ້ນຖ້າຄໍາຖືກລວມເຂົ້າກັບຊິລິໂຄນ, ເຊິ່ງຈະເຮັດໃຫ້ຄວາມວ່າງລະຫວ່າງຊັ້ນຕ່າງໆ. Pure Nickel ເປັນທາງເລືອກທີ່ດີສໍາລັບຊັ້ນກາວ, ໃນຂະນະທີ່ຊັ້ນ Barrier ຍັງຕ້ອງການລະຫວ່າງຊັ້ນ Nickel ແລະ Gold ເພື່ອປ້ອງກັນການຈະເລີນເຕີບໂຕ. Vanadium ສາມາດຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການນີ້ຢ່າງສົມບູນດ້ວຍຈຸດລະລາຍສູງແລະຄວາມສາມາດໃນການຢືນຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງ ampere ສູງ. ເພາະສະນັ້ນ, Nickel, Vanadium ແລະ Gold ແມ່ນສາມວັດສະດຸທີ່ປົກກະຕິແລ້ວໃຊ້ໃນອຸດສາຫະກໍາວົງຈອນປະສົມປະສານ. Nickel Vanadium Sputtering Target ແມ່ນຜະລິດໂດຍການເພີ່ມ Vanadium ເຂົ້າໄປໃນ Nickel molten. ດ້ວຍ ferromagnetism ຕ່ໍາ, ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ດີສໍາລັບການ sputtering magnetron ຂອງຜະລິດຕະພັນເອເລັກໂຕຣນິກ, ເຊິ່ງສາມາດຜະລິດຊັ້ນ Nickel ແລະຊັ້ນ Vanadium ໃນເວລາດຽວ.

Ni-7V wt% ເນື້ອໃນ Impurity

ຄວາມບໍລິສຸດ	ອົງປະກອບຫຼັກ(wt%)	ສານເຄມີທີ່ບໍ່ສະອາດ(≤ppm)							ຄວາມບໍ່ສະອາດທັງໝົດ(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99.99	7±0.5	20	30	20	100	30	100	20	100
99.95	7±0.5	200	200	200	100	100	200	50	500
99.9	7±0.5	300	300	300	100	100	200	50	500

ການຫຸ້ມຫໍ່ເປົ້າຫມາຍ Nickel Vanadium Sputtering

ເປົ້າໝາຍເຄື່ອງປັ່ນປ່ວນ Nickel Vanadium ຂອງພວກເຮົາຖືກຕິດປ້າຍໄວ້ຢ່າງຈະແຈ້ງ ແລະຕິດສະຫຼາກພາຍນອກເພື່ອຮັບປະກັນການກໍານົດຕົວຕົນ ແລະການຄວບຄຸມຄຸນນະພາບຢ່າງມີປະສິດທິພາບ. ມີຄວາມລະມັດລະວັງຫຼາຍເພື່ອຫຼີກລ່ຽງຄວາມເສຍຫາຍທີ່ອາດຈະເກີດຂຶ້ນໃນລະຫວ່າງການເກັບຮັກສາ ຫຼືການຂົນສົ່ງ.

ໄດ້ຮັບການຕິດຕໍ່

ເປົ້າໝາຍສະເປເຕີຂອງ Nickel Vanadium ຂອງ RSM ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແລະເປັນເອກະພາບ. ພວກເຂົາເຈົ້າມີຢູ່ໃນຮູບແບບຕ່າງໆ, ຄວາມບໍລິສຸດ, ຂະຫນາດ, ແລະລາຄາ. ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດວັດສະດຸເຄືອບເງົາບາງທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງດ້ວຍປະສິດທິພາບທີ່ດີເລີດເຊັ່ນດຽວກັນກັບຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງເມັດພືດສະເລ່ຍຂະຫນາດນ້ອຍທີ່ສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ສໍາລັບການເຄືອບ mold, ການຕົກແຕ່ງ, ຊິ້ນສ່ວນລົດໃຫຍ່, ແກ້ວຕ່ໍາ E, ວົງຈອນປະສົມປະສານ semi-conductor, ຮູບເງົາບາງໆ. ຄວາມຕ້ານທານ, ຈໍສະແດງຜົນກາຟິກ, ຍານອາວະກາດ, ການບັນທຶກແມ່ເຫຼັກ, ຫນ້າຈໍສໍາຜັດ, ຫມໍ້ໄຟແສງຕາເວັນຮູບເງົາບາງໆແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອື່ນໆຂອງ vapor deposition (PVD). ກະລຸນາສົ່ງໃຫ້ພວກເຮົາສອບຖາມສໍາລັບລາຄາໃນປະຈຸບັນກ່ຽວກັບເປົ້າຫມາຍ sputtering ແລະອຸປະກອນການຝາກອື່ນໆທີ່ບໍ່ມີຢູ່ໃນລາຍການ.

ທີ່ຜ່ານມາ: WCu Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງການເຄືອບ Pvd ບາງຮູບເງົາທີ່ເຮັດໃຫ້ເອງ

ຕໍ່ໄປ: NiCr Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd Coating Custom Made