ຍິນດີຕ້ອນຮັບສູ່ເວັບໄຊທ໌ຂອງພວກເຮົາ!

Tungsten Carbide Sputtering ເປົ້າໝາຍ

Tungsten carbide (ສູດເຄມີ: WC) ແມ່ນສານປະກອບທາງເຄມີ (ທີ່ຊັດເຈນ, carbide) ປະກອບດ້ວຍສ່ວນເທົ່າທຽມກັນຂອງ tungsten ແລະປະລໍາມະນູກາກບອນ. ໃນຮູບແບບພື້ນຖານທີ່ສຸດຂອງມັນ, tungsten carbide ແມ່ນຝຸ່ນສີຂີ້ເຖົ່າທີ່ດີ, ແຕ່ມັນສາມາດຖືກກົດດັນແລະສ້າງເປັນຮູບຮ່າງເພື່ອໃຊ້ໃນເຄື່ອງຈັກອຸດສາຫະກໍາ, ເຄື່ອງມືຕັດ, ເຄື່ອງຂັດ, ຮອບເຈາະເກາະ, ເຄື່ອງມືແລະເຄື່ອງມືອື່ນໆ, ແລະເຄື່ອງປະດັບ. Tungsten carbide (WC) ຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບການຜະລິດການເຄືອບ DLC (Diamond-Like Carbon).

https://www.rsmtarget.com/

ສໍາລັບ Tungsten Carbide Sputtering Targets ການຜູກມັດແມ່ນແນະນໍາສໍາລັບວັດສະດຸເຫຼົ່ານີ້. ວັດສະດຸຫຼາຍຊະນິດມີລັກສະນະທີ່ບໍ່ສາມາດແກ້ໄຂໄດ້ກັບ sputtering, ເຊັ່ນ: brittleness ແລະ conductivity ຄວາມຮ້ອນຕ່ໍາ. ອຸປະກອນການນີ້ອາດຈະຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີ ramp ພິເສດແລະຂັ້ນຕອນການ ramp ລົງ. ຂະບວນການນີ້ອາດຈະບໍ່ຈໍາເປັນສໍາລັບວັດສະດຸອື່ນໆ. ເປົ້າໝາຍທີ່ມີການນຳໃຊ້ຄວາມຮ້ອນຕໍ່າແມ່ນມີຄວາມອ່ອນໄຫວຕໍ່ກັບການຊ໊ອກຄວາມຮ້ອນ.

ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ

• ການປ່ອຍອາຍພິດເຄມີ (CVD)

• ການຕົກຄ້າງຂອງອາຍພິດທາງກາຍະພາບ (PVD)

• Semiconductor

• Optical

ຂະບວນການຜະລິດ

• ການຜະລິດ – ກົດເຢັນ – Sintered, Elastomer ຜູກມັດກັບແຜ່ນຮອງ

•ທໍາຄວາມສະອາດແລະການຫຸ້ມຫໍ່ສຸດທ້າຍ, ເຮັດຄວາມສະອາດສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນສູນຍາກາດ,

ບໍລິສັດ Rich Special Materials Co., Ltd. ຊ່ຽວຊານໃນ sputtering ເປົ້າຫມາຍແລະໂລຫະປະສົມສໍາລັບເວລາຫຼາຍປີ, ພວກເຮົາຈະສະຫນອງຄຸນນະພາບສູງ, ຜະລິດຕະພັນທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້ແລະວິທີແກ້ໄຂສໍາລັບທ່ານ.


ເວລາປະກາດ: ວັນທີ 09-09-2022