ການນຳໃຊ້ເປົ້າໝາຍ AZO Sputtering

ເປົ້າຫມາຍ sputtering AZO ຍັງຖືກເອີ້ນວ່າເປັນເປົ້າຫມາຍ sputtering ສັງກະສີອາລູມິນຽມ doped. ອາລູມີນຽມ doped zinc oxide ເປັນ oxide conducting ໂປ່ງໃສ. ຜຸພັງນີ້ແມ່ນບໍ່ລະລາຍໃນນ້ໍາແຕ່ມີຄວາມຫມັ້ນຄົງດ້ານຄວາມຮ້ອນ. ໂດຍທົ່ວໄປແລ້ວ AZO sputtering targets ແມ່ນຖືກໃຊ້ສໍາລັບການຊຶມເຊື້ອຂອງຮູບເງົາບາງໆ. ສະນັ້ນ ປະເພດໃດແດ່ທີ່ເຂົາເຈົ້າໃຊ້ເປັນຕົ້ນຕໍ? ຕອນນີ້ໃຫ້ບັນນາທິການຈາກ RSM ແບ່ງປັນກັບທ່ານ

ຂົງເຂດຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຕົ້ນຕໍ:

ໂຟໂຕໂວຕ້າຟິມບາງໆ

photovoltaics ຟິມບາງໃຊ້ semiconductors ເພື່ອປ່ຽນແສງສະຫວ່າງເປັນໄຟຟ້າ. ໃນກໍລະນີນີ້, ເປົ້າຫມາຍ sputtering AZO ສະຫນອງປະລໍາມະນູເປົ້າຫມາຍ AZO ທີ່ໃຊ້ເພື່ອເຮັດໃຫ້ຮູບເງົາບາງໆຢູ່ໃນ photovoltaic. ຊັ້ນຮູບເງົາບາງໆ AZO ອະນຸຍາດໃຫ້ໂຟຕອນເຂົ້າໄປໃນຈຸລັງແສງຕາເວັນ. ໂຟຕອນສ້າງອິເລັກຕອນທີ່ຮູບເງົາບາງໆ AZO ຂົນສົ່ງ.

ຈໍສະແດງຜົນຂອງ Liquid-Crystal (LCDs)

ບາງຄັ້ງ AZO sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນໃຊ້ໃນການເຮັດ LCDs. ເຖິງແມ່ນວ່າ OLEDs ຄ່ອຍໆປ່ຽນຈໍ LCD, LCDs ຖືກນໍາໃຊ້ໃນການສ້າງຈໍຄອມພິວເຕີ, ຫນ້າຈໍໂທລະທັດ, ຫນ້າຈໍໂທລະສັບ, ກ້ອງຖ່າຍຮູບດິຈິຕອນ, ແລະແຜງເຄື່ອງມື. ໂດຍທົ່ວໄປພວກມັນບໍ່ບໍລິໂພກພະລັງງານຫຼາຍແລະດັ່ງນັ້ນຈຶ່ງບໍ່ປ່ອຍຄວາມຮ້ອນຫຼາຍ. ນອກຈາກນັ້ນ, ເນື່ອງຈາກວ່າ AZO ແມ່ນບໍ່ມີສານພິດ, LCDs ບໍ່ປ່ອຍລັງສີທີ່ເປັນພິດ.

ໄດໂອດປ່ອຍແສງ (LEDs)

ໄຟ LED ເປັນ semiconductor ທີ່ຜະລິດແສງສະຫວ່າງໃນເວລາທີ່ປະຈຸບັນໄຫຼຜ່ານມັນ. ນັບຕັ້ງແຕ່ອາລູມິນຽມ doped zinc oxide ເປັນ semiconductor ທີ່ມີການນໍາໄຟຟ້າສູງແລະການຖ່າຍທອດທາງ optical, ມັນມັກຈະຖືກນໍາໃຊ້ໃນການສ້າງ LEDs. LEDs ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບການສະຫວ່າງ, ສັນຍານ, ການສົ່ງຂໍ້ມູນ, ລະບົບວິໄສທັດຂອງເຄື່ອງຈັກ, ແລະແມ້ກະທັ້ງການຊອກຄົ້ນຫາທາງຊີວະພາບ.

ການເຄືອບສະຖາປັດຕະຍະກໍາ

ເປົ້າຫມາຍ sputtering AZO ຖືກນໍາໃຊ້ໃນການເຄືອບສະຖາປັດຕະຍະກໍາຕ່າງໆ. ພວກເຂົາເຈົ້າສະຫນອງປະລໍາມະນູເປົ້າຫມາຍສໍາລັບການເຄືອບສະຖາປັດຕະ.