ຂາຍສົ່ງ CuTi Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd ຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ

ທອງແດງ Titanium

CuTi Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ການເຄືອບ Pvd ບາງໆ Custom Made ຮູບພາບທີ່ໂດດເດັ່ນ

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ປະເພດ	Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ
ສູດເຄມີ	CuTi
ອົງປະກອບ	ທອງແດງ Titanium
ຄວາມບໍລິສຸດ	99.9%, 99.95%, 99.99%
ຮູບຮ່າງ	ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ
ຂະບວນການຜະລິດ	ການລະລາຍສູນຍາກາດ
ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້	L≤200mm,W≤200mm

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ທອງແດງ Titanium sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນ fabricated ໂດຍວິທີການຂອງການລະລາຍສູນຍາກາດ. ມັນມີເນື້ອໃນທອງແດງຂອງ 80% ~ 90%, ແລະຄວາມສົມດູນຂອງ Titanium. ມັນສະແດງໃຫ້ເຫັນເຖິງຄວາມເຂັ້ມແຂງສູງທີ່ສຸດ (1000N/mm^2), ພຶດຕິກໍາການຜ່ອນຄາຍຄວາມກົດດັນທີ່ດີເລີດແລະຄວາມເຫມາະສົມກັບອຸນຫະພູມສູງ. ໂລຫະປະສົມ Titanium ທອງແດງເປັນວັດສະດຸທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້. ມັນສາມາດປັບປຸງຄວາມແຂງ, ຄວາມເຂັ້ມແຂງ, ການນໍາໄຟຟ້າແລະອັດຕາສ່ວນການຍືດຕົວ.

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດ Sputtering ເປົ້າຫມາຍແລະສາມາດຜະລິດທອງແດງ Titanium Sputtering Materials ຕາມການກໍານົດຂອງລູກຄ້າ. ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.

ທີ່ຜ່ານມາ: CuNiMn Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນ Pvd ແຜ່ນບາງໆ Custom Made

ຕໍ່ໄປ: CuW Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd Coating Custom Made