ຂາຍສົ່ງ CrNi Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ Thin Film Pvd Coating Custom Made ຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ

Chromium Nickel

CrNi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made Featured Image

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ປະເພດ	Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ
ສູດເຄມີ	CrNi
ອົງປະກອບ	Chromium Nickel
ຄວາມບໍລິສຸດ	99.9%, 99.95%, 99.99%
ຮູບຮ່າງ	ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ
ຂະບວນການຜະລິດ	ການລະລາຍສູນຍາກາດ
ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້	L≤4000mm,W≤350mm

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ດ້ວຍປະສິດທິພາບທີ່ດີຂອງການຕ້ານການຜຸພັງແລະການຕໍ່ຕ້ານການກັດກ່ອນ, CrNi ເປົ້າຫມາຍ sputtering ໂລຫະປະສົມມັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການນໍາໃຊ້ອຸດສາຫະກໍາຈໍານວນຫຼາຍ, ເຊັ່ນ: ແກ້ວຕ່ໍາ, ເອເລັກໂຕຣນິກຈຸນລະພາກ, ການບັນທຶກແມ່ເຫຼັກ, semiconductor, ແລະ resistor ຮູບເງົາບາງໆ.

Chronium Nickel Sputtering Target ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາການເຄືອບແກ້ວ, ລວມທັງການເຄືອບແກ້ວລົດຍົນ, ເພື່ອຫຼຸດຜ່ອນການສະທ້ອນ, ເພີ່ມການຖ່າຍທອດແສງສະຫວ່າງ, ແລະແກ້ໄຂບັນຫາຮູບພາບຜີ. ນອກຈາກນັ້ນ, ການເຄືອບ PVD ສາມາດເຮັດໃຫ້ອັດຕາການລ້າຊ້າລົງແລະຍືດອາຍຸຜະລິດຕະພັນທີ່ເປັນປະໂຫຍດ.

Low-E, ຫຼື low-emissivity, ແກ້ວໄດ້ຖືກສ້າງຂື້ນເພື່ອຫຼຸດຜ່ອນປະລິມານຂອງແສງ infrared ແລະ ultraviolet ທີ່ເຂົ້າມາຜ່ານແກ້ວຂອງທ່ານ, ໂດຍບໍ່ມີການຫຼຸດຜ່ອນປະລິມານຂອງແສງສະຫວ່າງທີ່ເຂົ້າມາໃນເຮືອນຂອງທ່ານ. ປ່ອງຢ້ຽມແກ້ວຕ່ໍາ E ມີການເຄືອບບາງໆທີ່ມີຄວາມໂປ່ງໃສແລະສະທ້ອນຄວາມຮ້ອນ, ຮັກສາອຸນຫະພູມທີ່ສອດຄ່ອງໂດຍການສະທ້ອນເຖິງອຸນຫະພູມພາຍໃນກັບຄືນໄປບ່ອນພາຍໃນ. Chronium Nickel ມັກຈະຖືກຝາກໄວ້ທາງນອກທີ່ສຸດເພື່ອເຮັດໜ້າທີ່ເປັນຊັ້ນຕ້ານອະນຸມູນອິດສະລະ ແລະຕ້ານການກັດກ່ອນ.

ຕົວຕ້ານທານຮູບເງົາບາງໆທີ່ຜະລິດໂດຍໂລຫະປະສົມ Chronium Nickel ມີຂໍ້ດີຫຼາຍ: ຄວາມຕ້ານທານສູງ, ຄ່າສໍາປະສິດອຸນຫະພູມຕ່ໍາແລະຄວາມອ່ອນໄຫວສູງ, ແລະຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາທີ່ແຕກຕ່າງກັນລວມທັງ Resistance Strain Gauge.

Purity	Cການຄັດຄ້ານ(wt%)	Iຄວາມບໍລິສຸດ(ppm)≤							Tຄວາມບໍ່ສະອາດຂອງໂລຫະ otal (ppm)
	Cr	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99.5	20 ±1.0	2500	1000	1500	150	100	200	100	≤5000
99.7	20 ±1.0	1500	800	1000	150	100	200	100	≤3000
99.8	20 ±1.0	1200	300	600	150	100	200	100	≤2000
99.9	20 ±1.0	600	200	500	100	100	200	50	≤1000
99.95	20 ±1.0	200	100	200	100	100	200	50	≤500

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນໄດ້ເຮັດໃຫ້ການຄົ້ນຄວ້າເລິກສໍາລັບ Chronium Nickel Alloy,ພວກເຮົາສາມາດສະຫນອງອົງປະກອບ Chronium ຈາກ 5%-80%. ອົງປະກອບທົ່ວໄປ: Ni-5Cr wt%, Ni-7Cr wt%, Ni-20Cr ທີ່%, Ni-20Cr wt%, Ni-30Cr wt%, Ni-40Cr ທີ່%, Ni-40Cr wt%, Ni-44Cr wt%. , Ni-50Cr wt%, Ni-60Cr wt%, ແລະພວກເຮົາສາມາດສະຫນອງຄວາມບໍລິສຸດທີ່ແຕກຕ່າງກັນ 99,5%, 99,7%, 99,8%, 99,9%, 99,95%. ຜະລິດຕະພັນຂອງພວກເຮົາຖືກຂາຍຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອາເມລິກາເຫນືອ, ເອີຣົບ, ຍີ່ປຸ່ນ, ເກົາຫຼີ, ອາຊີໃຕ້ແລະໄຕ້ຫວັນແລະນໍາໃຊ້ໃນອຸດສາຫະກໍາທີ່ແຕກຕ່າງກັນ: ແກ້ວພື້ນທີ່ຂະຫນາດໃຫຍ່, ອັດຕະໂນມັດ, ຕ້ານທານ, ບັນທຶກແມ່ເຫຼັກແລະປະສົມປະສານ PVD ວົງຈອນ.

ທີ່ຜ່ານມາ: CrAlW Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

ຕໍ່ໄປ: CrTi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made