ຍິນດີຕ້ອນຮັບເຂົ້າສູ່ເວັບໄຊທ໌ຂອງພວກເຮົາ!

AlNb Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made

ອາລູມີນຽມ Niobium

ລາຍ​ລະ​ອຽດ​ສັ້ນ​:

ປະເພດ

Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ

ສູດເຄມີ

AlNb

ອົງປະກອບ

ອາລູມີນຽມ Niobium

ຄວາມບໍລິສຸດ

99.9%, 99.95%, 99.99%

ຮູບຮ່າງ

ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ

ຂະບວນການຜະລິດ

ການລະລາຍສູນຍາກາດ, PM

ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້

L≤2000mm,W≤200mm


ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ເປົ້າໝາຍໄດ້ຖືກກະກຽມໂດຍການຜະສົມຜົງອາລູມີນຽມ ແລະ Niobium ປະຕິບັດຕາມດ້ວຍການບີບອັດໃຫ້ມີຄວາມໜາແໜ້ນເຕັມທີ່. ວັດສະດຸທີ່ຫນາແຫນ້ນດັ່ງນັ້ນຈຶ່ງຖືກ sintered ທາງເລືອກແລະຖືກສ້າງຕັ້ງຂຶ້ນເປັນຮູບຮ່າງທີ່ຕ້ອງການ. ມັນມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ໂຄງສ້າງຈຸລະພາກທີ່ເປັນເອກະພາບ, ວິທີການຂະບວນການງ່າຍດາຍແລະຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການແຂ່ງຂັນ, ແລະຖືກນໍາໃຊ້ໃນຫຼາຍໆຄໍາຮ້ອງສະຫມັກແລະອຸດສາຫະກໍາ.

ໂລຫະປະສົມອາລູມິນຽມ-niobium ມີຄວາມເຂັ້ມແຂງແລະຄວາມແຂງຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ, ສະຖຽນລະພາບທາງເຄມີທີ່ດີເລີດ, ແລະແມ່ນດີເລີດສໍາລັບສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີລະດັບອຸນຫະພູມສູງ. ນອກຈາກນັ້ນ, ໂລຫະປະສົມ Nb-Al ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ເປັນວັດສະດຸ superconductivity. ມັນມີລັກສະນະຈຸດລະລາຍສູງແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຕ່ໍາ, ແລະຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການບິນອະວະກາດ, ທະເລ, turbine ອາຍແກັສອຸດສາຫະກໍາ, ເຮືອບິນ, ນໍ້າມັນເຊື້ອໄຟເຕົາປະຕິກອນນິວເຄລຍ, ອຸດສາຫະກໍາອຸປະກອນ petrochemical. ໂລຫະປະສົມອາລູມິນຽມ-niobium ຍັງເປັນສິ່ງທີ່ສໍາຄັນໃນການຜະລິດໂລຫະປະສົມ Titanium ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ.

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດ Sputtering ເປົ້າຫມາຍແລະສາມາດຜະລິດວັດສະດຸອະລູມິນຽມ Niobium Sputtering ຕາມຂໍ້ກໍາຫນົດຂອງລູກຄ້າ. ຜະລິດຕະພັນຂອງພວກເຮົາມີຄຸນສົມບັດກົນຈັກທີ່ດີເລີດ, ໂຄງສ້າງທີ່ເປັນເອກະພາບ, ພື້ນຜິວຂັດໂດຍບໍ່ມີການແຍກ, ຮູຂຸມຂົນຫຼືຮອຍແຕກ. ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.


  • ທີ່ຜ່ານມາ:
  • ຕໍ່ໄປ: