WCu Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert gemaach

Wolfram Kupferlegierung Sputterziel gëtt mat Hëllef vu Pulvermetallurgie fabrizéiert. Den Inhalt vu Kupfer läit meeschtens tëscht 10% an 50%. Et huet excellent thermesch an elektresch Leit, héich Temperatur Kraaft an ductility. Bei ganz héijen Temperaturen, wéi iwwer 3000°C, gëtt de Kupfer an der Legierung flësseg a verdampft, absorbéiert eng grouss Quantitéit un Hëtzt an reduzéiert d'Uewerflächentemperatur vum Material. Dës Zort vu Material gëtt och Metall Schweessmaterial genannt.

Well déi zwee Metalle vu Wolfram a Kupfer mateneen inkompatibel sinn, huet Wolfram-Kupferlegierung déi geréng Expansioun, Verschleißbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet vu Wolfram an déi héich elektresch an thermesch Konduktivitéit vu Kupfer, an et ass gëeegent fir verschidde mechanesch Veraarbechtung. Wolfram-Kupferlegierungen kënnen no Benotzerfuerderunge fir Wolfram-Kupfer Verhältnis Produktioun a Gréisstveraarbechtung produzéiert ginn. Wolfram-Kupferlegierungen benotzen allgemeng Pulvermetallurgieprozesser fir Pulver-Batch-Mëschung-Press-Form-Sinterinfiltratioun ze preparéieren.

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Wolfram Kupfer Sputtering Materialien no Cliente Spezifikatioune produzéieren. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.