V Sputtering Target High Purity dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert gemaach
Vanadium
Vanadium Sputtering Target Beschreiwung
Vanadium ass en haart, duktilt Metal mat engem sëlwergroen Erscheinungsbild. Et ass méi haart wéi déi meescht Metaller a weist gutt Korrosiounsbeständegkeet géint Alkalien a Säuren. Säi Schmelzpunkt ass 1890 ℃, a Kachpunkt ass 3380 ℃. Seng Atomzuel ass 23, an Atomgewiicht ass 50,9414. Et huet eng Gesiicht-zentréiert kubesch Struktur an Oxidatiounszoustand a senge Verbindunge vun +5, +4, +3 an +2. Et huet héich Schmelzpunkt, Duktilitéit, Hardness a Korrosiounsbeständegkeet.
Vanadium gëtt extensiv an enger Rei vun Industrien an Uwendungen benotzt, wéi Jetmotoren, Héichgeschwindeg Loftrahmen, Atomreaktoren an Legierung vu Stol.
Héich Puritéit Vanadium Sputtering Zil ass e kritescht Material fir Solarzellen an optesch Lensbeschichtungen.
Chemesch Analyse
| Rengheet | 99,7 | 99,9 | 99,95 | 99,99 |
| Fe | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0,01 |
| Al | ≤0.2 | ≤0,05 | ≤0,03 | ≤0,01 |
| Si | ≤0.15 | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,01 |
| C | ≤0,03 | ≤0,02 | ≤0,01 | ≤0,01 |
| N | ≤0,01 | ≤0,01 | ≤0,01 | ≤0,01 |
| O | ≤0,05 | ≤0,05 | ≤0,05 | ≤0,03 |
| Onreinheet am Ganzen | ≤0.3 | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,01 |
Vanadium Sputtering Zilverpackung
Eis Vanadium Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.
Kréien Kontakt
Dem RSM seng Vanadium Sputterziler bidden eng super Rengheet a Konsistenz. Si sinn a verschiddene Formen, Rengheet, Gréissten a Präisser verfügbar. Mir spezialiséiert op héich Puritéit Dënnfilmbeschichtungsmaterialien mat exzellente Properties, souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréisst, fir Stierfbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low E Glas, Hallefleit Integréiert Circuiten, Dënnfilmresistors, Grafik Displays , Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreens, Dënnfilm Solarzellen an aner physesch Vapor Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.
