TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Titan Silicon
Video
Titan Silicon Sputtering Target Beschreiwung
Eng super-haard Nitridbeschichtung kéint geformt ginn wann Titan Silicon kombinéiert mat Stickstoffgas wärend der Oflagerungsprozess. D'Silicon Element present suergt héich Oxidatioun Resistenz Verhalen, iwwerdeems Titan - hardness. Et kéint excellent Verschleißbeständegkeetseigenschaften och bei héich erhéigen Temperaturen weisen. Schneidinstrumenter, déi vun der TiSiN Beschichtung deposéiert sinn, sinn ideal fir Héichgeschwindegkeet an haart Fräsen, besonnesch am trockenem Ausschneiden, a kéinte mat e puer Superlegierungen këmmeren, wéi Nickel an Titanbasislegierungen.
Eis typesch TiSi Ziler an hir Eegeschaften
Ti-15Sibei% | Ti-20Sibei% | Ti-25Sibei% | Ti-30Sibei% | |
Puritéit (%) | 99,9 | 99,9 | 99,9 | 99,9 |
Dicht(g/cm)3) | 4.4 | 4.35 | 4.3 | 4.25 |
Greenen Gréisst(µm) | 200/100 | 100 | 100 | 100 |
Prozess | VAR / HIP | HIP | HIP | HIP |
Eis Firma huet vill Joer Erfahrung mat der Fabrikatioun vu Sputterziler fir Schimmelschneidinstrumenter. Ti-15Si at%, fabrizéiert duerch Vakuum Schmelzen, huet homogen Struktur, héich Rengheet an niddereg Gas Inhalt. Ausserdeem liwwere mir och Ti-15Si bei%, Ti-20Si bei% an Ti-25Si bei% produzéiert duerch Energiemetallurgie. Eis TiSi Ziler hunn exzellent mechanesch Eegeschaften, sou datt se onempfindlech sinn fir Rëss a strukturell Versoen.
Titan Silicon Sputtering Target Verpakung
Eis Titan Silicon Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.
Kréien Kontakt
RSM's Titan Silicon Sputtering Ziler si vun ultra-héicher Rengheet an eenheetlech. Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar. Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir ze benotzen an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleeder integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solar Batterie an aner kierperlech Damp Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.