Grousshandel TiNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur

Titan Niob

TiNb Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	TiNb
Zesummesetzung	Titan Niob
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen, PM
Verfügbar Gréisst	L≤2000mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Tantal Niob Sputtering Target Beschreiwung

Titan Niobium Sputtering Zil gëtt duerch Vakuum Schmelzen oder Kraaftmetallurgie fabrizéiert. Den typesche Titangehalt ass 66% (ongeféier 50 Gewiicht%). Et ass en aussergewéinlecht Superkonduktivitéitsmaterial a konnt duerch konventionell Verformung an Wärmebehandlungsprozess zu enger Vielfalt vu komponéierte praktesche Materialien gemaach ginn.

Titan Niobium Sputtering Zil Verpakung

Eis Titan Niobium Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.

Kréien Kontakt

RSM's Titan Niobium Sputterziler si vun ultra-héicher Rengheet an eenheetlech. Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar.
Mir kënnen eng Vielfalt vu geometreschen Formen liwweren: Réier, Bogenkathoden, planar oder personaliséiert. Eis Produkter hunn exzellent mechanesch Eegeschaften, homogen Mikrostruktur, poléiert Uewerfläch ouni Segregatioun, Poren oder Rëss.

Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir ze benotzen an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleeder integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solar Batterie an aner kierperlech Damp Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.

virdrun: TiNbZr Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nächste: TiNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made