Grousshandel TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur

Titan Aluminium

TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	TiAl
Zesummesetzung	Titan Aluminium
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen, PM
Verfügbar Gréisst	L≤2000mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Video

Titan Aluminium Sputtering Target Beschreiwung

D'Ufuerderung vun der Zilqualitéit fir Sputterbeschichtung ass méi héich wéi déi vun der traditioneller Materialindustrie. Déi eenheetlech Mikrostruktur vum Zil beaflosst direkt d'Sputterleistung. Mir hunn e fäerdege Qualitéitsmanagementsystem a mir wielen héich Puritéit Rohmaterialien a grëndlech vermëschen fir Homogenitéit ze garantéieren. Titan Aluminiumlegierung Sputtering Zil gëtt duerch Vakuum Hot Pressing Method produzéiert.

Eis Titan Aluminium Sputterziler kéinten eng aussergewéinlech oxidatiounsresistent Nitridbeschichtung, Titan Aluminiumnitrid (TiAlN) ubidden. TiAlN ass den aktuelle Mainstream als Film fir Schneidinstrumenter, Rutschdeeler an Tribo-Beschichtungen. Et huet héich Hardness, Zähegkeet, verschleißbeständeg Leeschtung an Oxidatiounstemperatur.

Eis typesch TiAl Ziler an hir Eegeschaften

	Ti-75Al an%	Ti-70Al an%	Ti-67Al an%	Ti-60Al an%	Ti-50Al an%	Ti-30Al an%	Ti-20Al an%	Ti-14Al an%
Puritéit (%)	99,7	99,7	99,7	99,7	99,8/99,9	99,9	99,9	99,9
Dicht（g/cm³)	3.1	3.2	3.3	3.4	3,63/3,85	3,97	4.25	4.3
Greenen Gréisst(µm)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
Prozess	HIP	HIP	HIP	HIP	HIP/VAR	VAR	VAR	VAR

Titan Aluminium Sputtering Zilverpackung

Eis Titan Aluminium Sputter Zil ass kloer markéiert a baussent markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.

Kréien Kontakt

RSM's Titan Aluminium Sputterziler si vun ultra-héicher Rengheet an eenheetlech. Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar.
Mir kënnen eng Vielfalt vu geometreschen Formen liwweren: Réier, Bogenkathoden, planar oder personaliséiert, a breet Proportiounspalette vun Aluminium. Eis Produkter hunn exzellent mechanesch Eegeschaften, homogen Mikrostruktur, poléiert Uewerfläch ouni Segregatioun, Poren oder Rëss.
Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir ze benotzen an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleeder integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solar Batterie an aner kierperlech Damp Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.