Grousshandel TaNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur

Tantal Niobium

TaNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	TaNb
Zesummesetzung	Tantal Niobium
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen
Verfügbar Gréisst	L≤2000mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Tantal Niob Sputtering Target Beschreiwung

Tantal Niobium Sputtering Zil gëtt duerch Vakuum Schmelzen vun Tantal an Niobium fabrizéiert. Dës zwee sinn héije Schmelzpunkt (Tantal 2996 ℃, Niobium 2468 ℃), héije Kachpunkt (Tantal 5427 ℃, Niobium 5127 ℃) selten Metalle. Tantal Niobium Legierung huet déi ähnlech Erscheinung mat Stol, et huet e sëlwergroe Glanz (während de Pudder donkelgro ass). Et huet vill gënschteg Eegeschaften: corrosion Resistenz, superconductivity, an héich Temperatur Kraaft. Also all Uwendungen oder Industrien kéinte profitéieren vun der Benotzung vun Tantal Niobium Legierungen, wéi Elektronik, Glas & Optik, Raumfaart, medizinescht Apparat, Superleitung a Stol.

Tantal an Niobium sinn zënter Joeren entscheedend an der Weltraumindustrie wéinst hirer beandrockender Kraaft, Korrosiounsbeständegkeet an aner attraktiv Features, a goufen a ville wichtege Komponenten wéi Rakéitemotoren a Düsen benotzt.

Tantal Niobium Sputtering Zilverpackung

Eis TaNb Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.

Kréien Kontakt

Dem RSM seng Tantal Niobium Sputterziler si vun ultra-héicher Rengheet an eenheetlech. Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar. Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir ze benotzen an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleeder integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solar Batterie an aner kierperlech Damp Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.

virdrun: NbTi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nächste: WRe Sputtering Target High Purity dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert gemaach