NiCr Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Néckel Chrom
Video
Produktioun Detailer
Mat senger gudder Leeschtung vun Antioxidatioun a Korrosiounsbeständeg, NiCr Legierung Sputtering Zil Et gëtt extensiv a villen industriellen Uwendungen benotzt, wéi Low-E Glas, Mikro-Elektronik, Magnéitopnam, Halbleiter, an Dënnfilmresistor.
Nickel Chrom Sputtering Target gëtt wäit an der Glasbeschichtungsindustrie benotzt, dorënner Autosglasbeschichtung, fir d'Reflexioun ze reduzéieren, d'Iwwerdroung vum Liicht ze erhéijen an de Geeschterbildproblem ze léisen. Zousätzlech kann PVD-Beschichtung den Alterungsrate verlangsamen an d'nëtzlech Liewensdauer vu Produkter verlängeren.
Low-E, oder Low-Emissivitéit, Glas gouf erstallt fir d'Quantitéit un Infrarout an Ultraviolet Liicht ze minimiséieren déi duerch Äert Glas kënnt, ouni d'Quantitéit u Liicht ze minimiséieren déi an Äert Heem erakënnt. Low-E Glasfenster hunn dënn Beschichtungen déi transparent sinn an d'Hëtzt reflektéieren, déi d'Temperatur konsequent halen andeems se d'Bannentemperature bannen reflektéieren. Nickel Chrom gëtt dacks baussenzeg deposéiert fir als Antioxidatiouns- a Korrosiounsbeständeg Schicht ze funktionéieren.
Dënn Film Resistor produzéiert vun Nickel Chrom Legierung huet vill Virdeeler: héich Resistivitéit, niddereg Temperatur Koeffizient an héich Empfindlechkeet, a vill benotzt an verschidden Industrien dorënner Resistenz Strain Gauge.
Gëftstoffer Inhalt
Purity | Coppositioun (wt%) | Impurity (ppm) ≤ | TOtal Metal Gëftstoffer (ppm) | ||||||
Cr | Fe | Al | Si | C | N | O | S | ||
99.5 | 20±1.0 | 2500 | 1000 | 1500 | 150 | 100 | 200 | 100 | ≤5000 |
99.7 | 20±1.0 | 1500 | 800 | 1000 | 150 | 100 | 200 | 100 | ≤3000 |
99.8 | 20±1.0 | 1200 | 300 | 600 | 150 | 100 | 200 | 100 | ≤2000 |
99.9 | 20±1.0 | 600 | 200 | 500 | 100 | 100 | 200 | 50 | ≤1000 |
99,95 | 20±1.0 | 200 | 100 | 200 | 100 | 100 | 200 | 50 | ≤500 |
Rich Special Materials huet déif Fuerschung fir Nickel Chrom Legierung gemaach,mir kéinten Chrom Zesummesetzung vu 5% -80% liwweren. Typesch Zesummesetzung: Ni-5Cr wt%, Ni-7Cr wt%, Ni-20Cr at%, Ni-20Cr wt%, Ni-30Cr wt%, Ni-40Cr at%, Ni-40Cr wt%, Ni-44Cr wt% , Ni-50Cr wt%, Ni-60Cr wt%, an mir kéinte verschidde Puritéiten 99,5%, 99,7%, 99,8%, 99,9%, 99,95% liwweren. Eis Produkter gi wäit an Nordamerika, Europa, Japan, Korea, Südasien an Taiwan verkaaft an a verschiddenen Industrien applizéiert: Grouss Fläch Glas, Automatesch, Resistor, Magnéitesch Recording an Integréiert Circuit PVD Beschichtung.
Rich Special Materials ass e Fabrikant vu Sputtering Target kéint Nickel Chrom Sputtering Materialien no Cliente Spezifikatioune produzéieren. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.