D'Zil huet e breet Maart, Uwendungsberäich a grouss Entwécklung an der Zukunft. Fir Iech ze hëllefen e bessere Verständnis vun den Zilfunktiounen ze hunn, hei ënnen wäert de RSM Ingenieur kuerz d'Haaptfunktionell Ufuerderunge vum Zil virstellen.
Rengheet: Rengheet ass ee vun den Haaptfunktiounsindikatoren vum Zil, well d'Rengheet vum Zil e groussen Impakt op d'Funktioun vum Film huet. Wéi och ëmmer, an der praktescher Uwendung sinn d'Rengheetsufuerderunge vum Zil och anescht. Zum Beispill, mat der rapider Entwécklung vun der Mikroelektronikindustrie, gëtt d'Gréisst vum Siliziumwafer vu 6 "op 8" op 12 "ausgebaut, an d'Verdrahtungsbreet gëtt vun 0.5um op 0.25um, 0.18um oder souguer 0.13um reduzéiert. Virdrun, kann 99,995% vun der Zil- Rengheet de Prozess Ufuerderunge vun 0,35umic treffen, iwwerdeems d'Virbereedung vun 0,18um Linnen verlaangt 99,999% oder souguer 99,9999% vun der Zil- Rengheet.
Gëftstoffgehalt: Gëftstoffer an Zil- Feststoffer a Sauerstoff a Waasserdamp a Poren sinn d'Haaptverschmotzungsquellen vun deposéierte Filmer. Ziler fir verschidden Zwecker hu verschidden Ufuerderunge fir verschidden Gëftstoffer. Zum Beispill, puren Aluminium an Aluminiumlegierungsziler, déi an der Hallefleitindustrie benotzt ginn, hu speziell Ufuerderunge fir Alkalimetallgehalt a radioaktiv Elementgehalt.
Dicht: Fir d'Poren am Zilfest ze reduzéieren an d'Funktioun vum Sputterfilm ze verbesseren, muss d'Zil normalerweis eng héich Dicht hunn. D'Dicht vum Zil beaflosst net nëmmen d'Sputterrate, mee beaflosst och d'elektresch an optesch Funktiounen vum Film. Wat méi héich d'Zieldicht ass, wat besser d'Funktioun vum Film ass. Zousätzlech ginn d'Dicht an d'Kraaft vum Zil verbessert, sou datt d'Ziel den thermesche Stress am Sputterprozess besser akzeptéiere kann. D'Dicht ass och ee vun de Schlësselfunktionnelle Indikatoren vum Zil.
Post Zäit: Mee-20-2022