Vakuumbeschichtung bezitt sech op d'Heizung an d'Verdampfung vun der Verdampfungsquell am Vakuum oder Sputtering mat beschleunegter Ionenbombardement, an deposéiert et op der Uewerfläch vum Substrat fir en Een-Schicht oder Multi-Layer Film ze bilden. Wat ass de Prinzip vun der Vakuumbeschichtung? Als nächst wäert de Redakter vun RSM et eis virstellen.
1. Vakuum Verdampfung Beschichtung
D'Verdampfungsbeschichtung erfuerdert datt d'Distanz tëscht den Dampmolekülen oder Atomer vun der Verdampfungsquell an dem Substrat, deen ze beschichtet ginn, manner soll sinn wéi den duerchschnëttleche fräie Wee vun de Reschtgasmolekülen am Beschichtungsraum, fir datt d'Dampmoleküle vum Verdampfung kann d'Uewerfläch vum Substrat ouni Kollisioun erreechen. Vergewëssert Iech datt de Film reng a fest ass, an d'Verdampfung wäert net oxidéieren.
2. Vakuum Sputtering Beschichtung
Am Vakuum, wann déi beschleunegt Ionen mam Feststoff kollidéieren, engersäits ass de Kristall beschiedegt, op der anerer Säit kollidéiere se mat den Atomer, déi de Kristall ausmaachen, a schliisslech d'Atomer oder Molekülen op der Uewerfläch vum Feststoff. no baussen spatzen. D'Sputtermaterial gëtt op de Substrat platéiert fir en dënnen Film ze bilden, wat Vakuum Sputterplating genannt gëtt. Et gi vill Sputtermethoden, dorënner d'Diode Sputtering déi fréist ass. Geméiss verschidden Kathodeziler kann et an Direktstroum (DC) an Héichfrequenz (RF) opgedeelt ginn. D'Zuel vun den Atomer, déi gesputtert ginn andeems se d'Zielfläch mat engem Ion beaflossen, gëtt Sputterrate genannt. Mat héijer Sputterrate ass d'Filmbildungsgeschwindegkeet séier. De Sputterrate ass mat der Energie an der Aart vun Ionen an der Aart vun Zilmaterial verbonnen. Allgemeng schwätzt de Sputterrate mat der Erhéijung vun der mënschlecher Ionenergie erop, an de Sputterrate vun Edelmetaller ass méi héich.
Post Zäit: Jul-14-2022