Wéi mir all wëssen, Vakuum Verdampung an Ione Sputtering ginn allgemeng a Vakuumbeschichtung benotzt. Wat ass den Ënnerscheed tëscht Verdampfungsbeschichtung a Sputterbeschichtung? Als nächst wäerten déi technesch Experten vun RSM mat eis deelen.
Vakuum Verdampfungsbeschichtung ass fir d'Material ze verdampen op eng gewëssen Temperatur duerch Resistenzheizung oder Elektronenstrahl a Laserbombardement an engem Ëmfeld mat engem Vakuumgrad vun net manner wéi 10-2Pa, sou datt d'thermesch Schwéngungsenergie vu Molekülen oder Atomer am Material iwwerschreiden d'Bindungsenergie vun der Uewerfläch, sou datt eng grouss Zuel vu Molekülen oder Atomer verdampen oder subliméieren, an direkt op de Substrat ausfällt fir e Film ze bilden. Ion Sputtering Beschichtung benotzt d'High-Speed-Bewegung vu positiven Ionen, déi duerch Gasentladung ënner der Handlung vum elektresche Feld generéiert ginn, fir d'Zil als d'Kathode ze bombardéieren, sou datt Atomer oder Molekülen am Zil entkommen an op d'Uewerfläch vum platetéiertem Werkstéck ausfällt fir ze bilden déi néideg Film.
De stäerkste allgemeng benotzt Method vun Vakuum Verdampfung Beschichtung ass Resistenz Heizung, déi d'Virdeeler vun einfach Struktur, niddereg Käschten a praktesch Operatioun huet; Den Nodeel ass datt et net gëeegent ass fir refractaire Metaller an héich Temperaturbeständeg dielektresch Materialien. Elektronenstrahlheizung a Laserheizung kënnen d'Mängel vun der Resistenzheizung iwwerwannen. Bei der Elektronenstrahlheizung gëtt de fokusséierte Elektronenstrahl benotzt fir dat bombardéiert Material direkt z'erhëtzen, an d'kinetesch Energie vum Elektronenstrahl gëtt Hëtztenergie, wat d'Material verdampft. Laserheizung benotzt High-Power Laser als Heizquell, awer wéinst den héije Käschte vum High-Power Laser, kann et am Moment nëmmen an e puer Fuerschungslaboratoiren benotzt ginn.
Sputtering Technologie ass anescht wéi Vakuum Verdampfung Technologie. "Sputtering" bezitt sech op d'Phänomen datt gelueden Partikelen déi zolidd Uewerfläch (Ziel) bombardéieren an zolidd Atomer oder Moleküle vun der Uewerfläch eraus schéissen. Déi meescht vun den emittéierte Partikel sinn am atomeschen Zoustand, wat dacks gesputtert Atomer genannt gëtt. Déi gesputtert Partikel, déi benotzt gi fir d'Zil ze bombardéieren, kënnen Elektronen, Ionen oder neutral Partikel sinn. Well Ionen ënner dem elektresche Feld einfach ze beschleunegen fir déi erfuerderlech kinetesch Energie ze kréien, benotzen déi meescht vun hinnen Ionen als bombardéiert Partikel. Sputtering Prozess baséiert op Glühungsentladung, dat heescht, Sputteringione kommen aus Gasentladung. Verschidde Sputtering Technologien adoptéieren verschidde Glühflussmodi. DC Diode Sputtering benotzt DC Glow Offlossquantitéit; Triode Sputtering ass e Glühfluss vun der waarmer Kathode ënnerstëtzt; RF Sputtering benotzt RF Glow Offlossquantitéit; Magnetron-Sputtering ass eng Glüh-Entladung kontrolléiert duerch en annular Magnéitfeld.
Am Verglach mat Vakuum Verdampfungsbeschichtung huet d'Sputterbeschichtung vill Virdeeler. Zum Beispill kann all Substanz gesprëtzt ginn, besonnesch Elementer a Verbindungen mat héije Schmelzpunkt a nidderegen Dampdruck; D'Haftung tëscht Sputterfilm a Substrat ass gutt; héich Film Dicht; D'Filmdicke kann kontrolléiert ginn an d'Wiederholbarkeet ass gutt. Den Nodeel ass datt d'Ausrüstung komplex ass an Héichspannungsapparater erfuerdert.
Zousätzlech ass d'Kombinatioun vun der Verdampungsmethod a Sputtermethod Ionbeschichtung. D'Virdeeler vun dëser Method sinn datt de kritt Film eng staark Adhäsioun mam Substrat huet, héich Oflagerungsquote an héich Filmdicht.
Post Zäit: Jul-20-2022