Am Moment si bal all héich-Enn ultra-héich Rengheet Metal Kupfer Ziler vun der IC Industrie gefuerdert, monopoliséiert vu verschiddene groussen auslännesche multinationale Firmen. All déi ultrapure Kupferziler, déi vun der Gewalt IC Industrie gebraucht ginn, musse importéiert ginn, wat net nëmmen deier ass, awer och an Importprozeduren komplizéiert ass. . Loosst eis e Bléck op d'Schlësselpunkten a Schwieregkeeten an der Entwécklung vun ultra-héich Puritéit (6N) Kupfersputterziler kucken.
1,Entwécklung vun ultra héich Rengheet Materialien
D'Reinigungstechnologie vun héijer Rengheet Cu, Al an Ta Metaller a China ass wäit vun deem an industriellen entwéckelte Länner. Am Moment sinn déi meescht vun den héich-Rengheetsmetaller, déi geliwwert kënne ginn, net d'Qualitéitsufuerderunge vun den integréierte Circuiten fir Sputterziler entspriechen den konventionellen All Element Analysemethoden an der Industrie. D'Zuel vun den Inklusiounen am Zil ass ze héich oder ongläich verdeelt. Partikele ginn dacks op der Wafer während der Sputtering geformt, wat zu Kuerzschluss oder Open Circuit vun Interconnect resultéiert, wat d'Leeschtung vum Film eescht beaflosst.
2,Entwécklung vun Koffer sputtering Zil Virbereedung Technologie
D'Entwécklung vu Kupfersputtering Zilpräparatiounstechnologie konzentréiert sech haaptsächlech op dräi Aspekter: Korngréisst, Orientéierungskontroll an Uniformitéit. D'Halbleiterindustrie huet déi héchst Ufuerderunge fir Sputterziler a Verdampfung vu Rohmaterialien. Et huet ganz strikt Ufuerderunge fir d'Kontroll vun der Uewerflächekorngréisst an der Kristallorientéierung vum Zil. D'Korngréisst vum Zil muss op 100 kontrolléiert ginnμ M drënner, also d'Kontroll vun der Kärgréisst an d'Moyene vun der Korrelatiounsanalyse an der Detektioun si ganz wichteg fir d'Entwécklung vu Metallziler.
3,Entwécklung vun Analyse antesten Technologie
Déi héich Rengheet vum Zil bedeit d'Reduktioun vun Gëftstoffer. An der Vergaangenheet goufen induktiv gekoppelt Plasma (ICP) an atomarer Absorptiounsspektrometrie benotzt fir Gëftstoffer ze bestëmmen, awer an de leschte Joeren ass d'Glow-Entladungsqualitéitsanalyse (GDMS) mat méi héijer Sensibilitéit graduell als Standard benotzt ginn. Method. D'Reschtresistenzverhältnis RRR Method gëtt haaptsächlech fir d'Bestëmmung vun der elektrescher Rengheet benotzt. Säin Determinatiounsprinzip ass d'Rengheet vum Basismetall ze evaluéieren andeems de Grad vun der elektronescher Dispersioun vu Gëftstoffer gemooss gëtt. Well et ass d'Resistenz bei Raumtemperatur a ganz niddereg Temperatur ze moossen, ass et einfach d'Zuel ze huelen. An de leschte Joeren, fir d'Essenz vu Metaller ze entdecken, ass d'Fuerschung iwwer ultra-héich Rengheet ganz aktiv. An dësem Fall ass de RRR Wäert de beschte Wee fir d'Rengheet ze evaluéieren.
Post Zäit: Mee-06-2022