Grousshandel MoCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur

Molybdän Kupfer

MoCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	MoCu
Zesummesetzung	Molybdän Kupfer
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	PM
Verfügbar Gréisst	L≤200mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Molybdän Kupfer Sputtering Zil gëtt duerch Infiltratioun Sintering fabrizéiert: Molybdän Pulver gesintert a geformt an d'Halleffäerdeg Produkter, kombinéiert mat enger spéiderer Mikrowell-assistéierter Waasserléisungsstrategie. Molybdän Kupferlegierung huet aussergewéinlech physesch a mechanesch Eegeschaften: zefriddestellend elektresch an thermesch Konduktivitéit, nidderegen an justierbare Koeffizient vun der thermescher Expansioun, Verschleißbeständegkeet an héich Temperaturkraaft.

Zesummesetzung (%)	Cu	Mo	Gëftegkeet (%)
MoCu10	10±2	Gläichgewiicht	≤0.1
MoCu15	15±3	Gläichgewiicht	≤0.1
MoCu20	20±3	Gläichgewiicht	≤0.1
MoCu25	25±3	Gläichgewiicht	≤0.1
MoCu40	40±5	Gläichgewiicht	≤0.1

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Molybdän Kupfer Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.

virdrun: MoNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nächste: NbTi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made