Wëllkomm op eise Websäiten!

FeTa Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Coating Custom Made

Eisen Tantal

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie

Alloy Sputtering Zil

Chemesch Formel

FeTa

Zesummesetzung

Eisen Tantal

Rengheet

99,9%, 99,95%, 99,99%

Form

Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach

Produktioun Prozess

Vakuum Schmelzen

Verfügbar Gréisst

L≤200mm, W≤200mm


Produit Detailer

Produit Tags

Eisen Tantal Sputtering Target Beschreiwung

Eisen Tantal Legierung ass e gëeegent Material fir Verdampfungsquellen, Elektronenröhren, Prothetesch Geräter, a Gläichretter. Mir beschäftegen fortgeschratt Technik vu Goss a séier Solidifikatioun fir Fe-Ta Legierung mat héijer Rengheet an homogener Struktur ze kréien. D'Zil, déi mir produzéieren, huet exzellent mechanesch Eegeschaften a konnt raffinéiert Uewerflächeschichten produzéieren.

Eisen Tantal Sputtering Zil Verpakung

Eisen Iron Tantalum Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.

Kréien Kontakt

RSM's Eisen Tantal Sputterziler si vun ultra-héicher Rengheet an eenheetlech. Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar.

Mir kënnen eng Vielfalt vu geometreschen Formen liwweren: Réier, Bogenkathoden, planar oder personaliséiert. Eis Produkter hunn exzellent mechanesch Eegeschaften, homogen Mikrostruktur, poléiert Uewerfläch ouni Segregatioun, Poren oder Rëss.

Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir ze benotzen an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleeder integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solar Batterie an aner kierperlech Damp Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.


  • virdrun:
  • Nächste: