Wëllkomm op eise Websäiten!

FeNi Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Coating Custom Made

Eisen Nickel

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie

Alloy Sputtering Zil

Chemesch Formel

NiFe

Zesummesetzung

Eisen Nickel

Rengheet

99,9%, 99,95%, 99,99%

Form

Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach

Produktioun Prozess

Vakuum Schmelzen, PM

Verfügbar Gréisst

L≤2000mm, W≤300mm


Produit Detailer

Produit Tags

Eisen Nickel Sputtering Target gëtt duerch Vakuum Schmelzen, Casting a PM hiergestallt. Et huet eng ganz héich magnetesch Permeabilitéit bei gerénger Feldstäerkt.

En Iron Nickel Zil (Nickel> 30 wt%) weist d'Gesiicht-zentréiert kubesch Struktur bei Raumtemperatur. Konventionell Nickel Eisen Ziler hunn méi wéi 36% Zesummesetzung vum Nickel, a konnten a véier Kategorien opgedeelt ginn: 35%–40% Ni-Fe, 45%–50% Ni-Fe, 50%–65% Ni-Fe a 70% ~81% Ni-Fe. Jidderee kéint zu Material mat kreesfërmeg, rechtecklech oder eben magnetesche Hysteresis Schleifen gemaach ginn.

Nickel Iron (Ni-Fe) Sputtering Ziler ginn an enger breet Palette vun Uwendungen benotzt, zum Beispill magnetesche Späichermedien an EMI Schirmgeräter.

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Eisen Nickel Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren. Mir kéinten Puritéit 99,99% an eis typesch Kompositioune liwweren: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.


  • virdrun:
  • Nächste: