FeNi Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Coating Custom Made
Eisen Nickel
Eisen Nickel Sputtering Target gëtt duerch Vakuum Schmelzen, Casting a PM hiergestallt. Et huet eng ganz héich magnetesch Permeabilitéit bei gerénger Feldstäerkt.
En Iron Nickel Zil (Nickel> 30 wt%) weist d'Gesiicht-zentréiert kubesch Struktur bei Raumtemperatur. Konventionell Nickel Eisen Ziler hunn méi wéi 36% Zesummesetzung vum Nickel, a konnten a véier Kategorien opgedeelt ginn: 35%–40% Ni-Fe, 45%–50% Ni-Fe, 50%–65% Ni-Fe a 70% ~81% Ni-Fe. Jidderee kéint zu Material mat kreesfërmeg, rechtecklech oder eben magnetesche Hysteresis Schleifen gemaach ginn.
Nickel Iron (Ni-Fe) Sputtering Ziler ginn an enger breet Palette vun Uwendungen benotzt, zum Beispill magnetesche Späichermedien an EMI Schirmgeräter.
Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Eisen Nickel Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren. Mir kéinten Puritéit 99,99% an eis typesch Kompositioune liwweren: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.