Grousshandel FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur

Eisen Kobalt Tantal

FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	FeCoTa
Zesummesetzung	Eisen Kobalt Tantal
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen, PM
Verfügbar Gréisst	L≤200mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Eisen Kobalt Tantal Ziler sinn normalerweis a kreesfërmeg Form a kriteschen dënnem Filmmaterialien vu vertikale magnetesche Opnammedien verfügbar. Déi bedeitend Quantitéit Tantal, déi an der Legierung präsent ass, géif zu Segregatioun féieren an onopléist Partikel presentéieren. Mir benotzen eenzegaarteg Produktiounsmethod déi d'Homogenitéit vun der Mikrostruktur suerge konnt an d'mechanesch Eegeschafte vun de Materialien verbesseren.

Produit Numm		FeCoTa
Fe/wt%		Gläichgewiicht	Gläichgewiicht	Gläichgewiicht
Co/wt%		21,6±0,5	21,9 ± 0,5	20,2±0,5
Ta/wt%		41,1±0,8	39,4±0,8	44,3±0,8
Metal Gëftstoffer Inhalt（ppm)	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
Gas Gëftstoffer Inhalt（ppm)	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Eisen Kobalt Tantal Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.

virdrun: FeCo Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Coating Custom Made

Nächste: FeSi Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Coating Custom Made