CrCu Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made

Chrom Kupferlegierung Sputtering Zil ass e Cu-baséiert Material mat Chrom Element derbäi bäigefüügt. Et huet héich mechanesch Kraaft an hardness, excellent elektresch an Hëtzt conductivity. Cr-Cu Legierung huet eng Vielfalt vun Uwendungen gewonnen, déi Ausrüstung ënner héijen Temperaturen operéieren wéinst senge spezifesche Charakteristiken: Héichtemperatur-Suitability, Oxidatiounsbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet a Veraarbechtbarkeet.

Chromium Kupfermaterial huet héich Härtheet, Verschleißbeständegkeet, Béibeständegkeet, Rëssbeständegkeet an héich Iwwergangstemperatur. ass eng Zort erneierbar Energie. Den trivalente Chrom präsent ass keng Gefor fir d'mënschlech Gesondheet. Et ass och e gemeinsame Leedungsmaterial. Chromium Kupfer gouf extensiv an optoelektronesche Technologieprodukter benotzt, wéi Touch Panel, LCD a Solarzellen.

Rich Special Materials ass e Fabrikant vu Sputtering Target kéint Chromium Kupfer Sputtering Materialien no Cliente Spezifikatioune produzéieren. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.