Grousshandel CrAlSi Legierung Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur

Chrom Aluminium Silicon

CrAlSi Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	CrAlSi
Zesummesetzung	Chrom Aluminium Silizium
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen, PM
Verfügbar Gréisst	L≤1000mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Chronium Aluminium Silicon Sputtering Target Beschreiwung

D'Fabrikatioun vu Chronium Aluminium Silicon Sputtering Targets ëmfaasst déi folgend Schrëtt:
1.Vakuum Schmelz vun Silicon, Aluminium a Chronium fir Schrëttlegierungen ze kréien.
2.Powder Schleifen a Vermëschung.
3.Hot isostatesch Dréckbehandlung fir de Chrom Aluminium Siliziumlegierung Sputterziel ze kréien.
Chronium Aluminium Silicon Sputtering Ziler ginn extensiv a Schneidinstrumenter a Schimmel benotzt, wéinst senger Verschleißbeständegkeet an héijer Temperaturoxidatiounsbeständegkeet fir d'Filmleistung ze verbesseren.
Eng amorph Si3N4 Phase géif während dem Prozess vu PVD vu CrAlSi Ziler geformt ginn. Wéinst der Inkorporatioun vun der amorpher Si3N4 Phase, konnt de Wuesstum vun der Kärgréisst behënnert ginn an d'Héichtemperaturoxidatiounsresistenzeigenschaften verbesseren.

Chronium Aluminium Silicon Sputtering Zilverpackung

Eis Chronium Aluminium Silicon Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir e Schued ze vermeiden deen während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn

Kréien Kontakt

RSM's Chronium Aluminium Silicon Sputterziler si vun ultra-héicher Rengheet an Uniform. Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar. Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir ze benotzen an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleeder integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solar Batterie an aner kierperlech Damp Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.

virdrun: CrSi Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made

Nächste: AlCr Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert gemaach