Grousshandel CoCrAlY Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur

Kobalt Chrom Aluminium Yttrium

CoCrAlY Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film PVD Coating Custom Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	CoCrAlY
Zesummesetzung	Kobalt Chrom Aluminium Yttrium
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen
Verfügbar Gréisst	L≤200mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Kobalt Chrom Aluminium Yttrium Sputtering Target Beschreiwung

Kobalt Chrom Aluminium Yttrium Sputtering Zil ass eng Kobalt-baséiert Legierung mat Zousatz vun Chrom Aluminium an Yttrium Elementer. Et weist grousst korrosionsbeständeg Verhalen am verschmolzene Salzmedium (Natriumsulfat, Natriumnitrat, Natriumkarbonat, Kalziumsulfat, Kalziumsulfat, Natriumchlorid Kaliumchlorid, Natriumchlorid Natriumsulfat) bei erhéigen Temperaturen. Chrom Aluminium Yttrium kéint verschidde Verhältnisser hunn, jee no der Operatiounsëmfeld vun de Schichten. Normalerweis géif d'Legierung biphasesch Struktur weisen, während den Inhalt vu Chrom 20-40% (wt, Aluminium 5-20% (wt), an Yttrium 0,5% (wt) ass.

Kobalt Chrom Aluminium Yttrium Ziler konnten op der Uewerfläch vun héichtemperaturkomponenten deposéiert ginn, déi an der Raumfaart-, Fliger- a Gasturbinindustrie benotzt ginn. Dës Aart vu Schicht konnt de Liewensdauer ëm zéngdausend Stonnen verlängeren.

Kobalt Chrom Aluminium Yttrium Sputtering Target Verpakung

Eis CoCrAlY Sputter Zil ass kloer markéiert a baussenzeg markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.

Kréien Kontakt

RSM's Cobalt Chromium Aluminium Yttrium Sputterziler si vun ultra-héicher Rengheet an eenheetlech. Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar. Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir ze benotzen an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleeder integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solar Batterie an aner kierperlech Damp Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.

virdrun: CrW Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert gemaach

Nächste: CoFeTaZr Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Coating Custom Made