Grousshandel AlTi Legierung Sputtering Target High Purity Fabrikant an Fournisseur

Aluminium Titan

AlTi Legierung Sputtering Target High Purity Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	AlTi
Zesummesetzung	Aluminium Titan
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen, PM
Verfügbar Gréisst	L≤2000mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

D'Ufuerderung vun der Zilqualitéit fir Sputterbeschichtung ass méi héich wéi déi vun der traditioneller Materialindustrie. Déi eenheetlech Mikrostruktur vum Zil beaflosst direkt d'Sputterleistung. Mir hunn e fäerdege Qualitéitsmanagementsystem a mir wielen héich Puritéit Rohmaterialien a grëndlech vermëschen fir Homogenitéit ze garantéieren. Aluminium Titanlegierung Sputtering Zil gëtt duerch Vakuum Hot Pressing Method produzéiert.

Eis Aluminium Titan Sputterziler kéinten eng aussergewéinlech oxidatiounsresistent Nitridbeschichtung, Titan Aluminiumnitrid (TiAlN) ubidden. TiAlN ass den aktuelle Mainstream als Film fir Schneidinstrumenter, Rutschdeeler an Tribo-Beschichtungen. Et huet héich Hardness, Zähegkeet, verschleißbeständeg Leeschtung an Oxidatiounstemperatur.

Eis typesch AlTi Ziler an hir Eegeschaften

	Ti-75Al an%	Ti-70Al an%	Ti-67Al an%	Ti-60Al an%	Ti-50Al an%	Ti-30Al an%	Ti-20Al an%	Ti-14Al an%
Puritéit (%)	99,7	99,7	99,7	99,7	99,8/99,9	99,9	99,9	99,9
Dicht（g/cm³)	3.1	3.2	3.3	3.4	3,63/3,85	3,97	4.25	4.3
Greenen Gréisst(µm)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
Prozess	HIP	HIP	HIP	HIP	HIP/VAR	VAR	VAR	VAR

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnten Aluminium Titan Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren. Mir kënnen eng Vielfalt vu geometreschen Formen liwweren: Réier, Bogenkathoden, planar oder personaliséiert, a breet Proportiounspalette vun Aluminium. Eis Produkter hunn exzellent mechanesch Eegeschaften, homogen Mikrostruktur, poléiert Uewerfläch ouni Segregatioun, Poren oder Rëss. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.

virdrun: AlNi Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film PVD Beschichtung Benotzerdefinéiert Made

Nächste: AlTa Sputtering Target High Purity Dënn Film PVD Coating Custom Made