AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film PVD Beschichtung Benotzerdefinéiert Made
Aluminium Silicon
Aluminium Silicon Sputtering Target Beschreiwung
D'Ziler gi virbereet andeems d'Aluminium- a Siliconpulver vermëschen, gefollegt vun der Verdichtung op voller Dicht. Déi esou kompakt Materialien ginn optional gesintert a ginn dann an déi gewënscht Zilform geformt. Eis Aluminium Silicon Sputtering Ziler sinn verfügbar a rechteckeg, kreesfërmeg oder personaliséiert geometresch Formen, Aluminiumgehalt vun 10-90% atomarer, a Feature héich Rengheet, homogen Mikrostruktur, héich Dicht a laang Liewensdauer.
Aluminium Silicon gëtt extensiv an der Automobil-, Fliger- a Bauindustrie benotzt fir seng eenzegaarteg Kombinatioun vu wënschenswäerten Charakteristiken, dorënner Liichtgewiicht, gutt thermesch Konduktivitéit a mechanesch Eegeschaften. D'Dicht vun dësem Material ass 2.6 ~ 2.7g / cm3, thermesch Konduktivitéitskoeffizient 101 ~ 126W / (m · ℃), Tensile Modulus 71.0GPa, Middegkeet Limit ± 45MPa. Aluminium-Siliciumlegierungen hunn och exzellent Korrosiounsbeständegkeet, Veraarbechtbarkeet a Schweißbarkeet. Aluminium-Silisiumlegierungen ginn an enger Vielfalt vun Automobil-, Raumfaart- a Konsumproduktapplikatioune benotzt, wéi Motorblocken an Zylinderliner, Pistonen, Lagerlegierungsmaterialien a Konsumentelektronikkomponenten.+2. Et huet héich Schmelzpunkt, Duktilitéit, Hardness a Korrosiounsbeständegkeet.
Aluminium Silicon Sputtering Zilverpackung
Eis Aluminium Silicon Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren. Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.
Kréien Kontakt
RSM's Aluminium Silicon Sputterziler si vun ultra-héicher Rengheet an eenheetlech. Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar. Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir ze benotzen an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleeder integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solar Batterie an aner kierperlech Damp Deposition (PVD) Uwendungen. Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.