Grousshandel AlCr Legierung Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur

Aluminium Chrom

AlCr Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	AlCr
Zesummesetzung	Aluminium Chrom
Rengheet	99,7%, 99,9%, 99,95%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	PM
Verfügbar Gréisst	L≤2000mm, W≤200mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Aluminium Chrom Sputtering Target Beschreiwung

Aluminium Chrom Sputtering Zilvu Rich Special Materials ass en Alliage Sputtermaterial mat Al a Cr. Sou huet deAluminium Chrom Sputter Zilhuet d'Virdeeler vun dësen zwee Elementer.

Aluminium, och Aluminium genannt, ass e chemescht Element dat aus dem laténgesche Numm fir Alun staamt, 'Alumen' dat heescht Bitter Salz. Et gouf fir d'éischt am Joer 1825 ernimmt a vum HCÃ˜rsted observéiert. D'Isolatioun gouf spéider erreecht an ugekënnegt vum HCÃ˜rsted. "Al" ass dat kanonescht chemescht Symbol vun Aluminium. Seng Atomnummer an der Periodesch Tabell vun den Elementer ass 13 mat enger Plaz an der Period 3 a Grupp 13, déi zum p-Block gehéiert. D'relativ Atommass vum Aluminium ass 26,9815386(8) Dalton, d'Zuel an de Klammern, déi d'Onsécherheet uginn.

Chrom ass e chemescht Element dat aus dem griichesche "Chroma" staamt, dat heescht Faarf. Et war fréi benotzt virun 1 AD an entdeckt vun Terracotta Arméi. "Cr" ass dat kanonescht chemescht Symbol vu Chrom. Seng Atomzuel an der Periodesch Tabell vun den Elementer ass 24 mat enger Plaz an der Period 4 a Grupp 6, déi zum d-Block gehéiert. D'relativ Atommass vu Chrom ass 51,9961(6) Dalton, d'Zuel an de Klammern, déi d'Onsécherheet uginn.

Eis typesch AlCr Ziler an hir Eegeschaften

	Cr-70 Albei%	Cr-60 Albei%	Cr-50 Albei%
Puritéit (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
Dicht（g/cm³)	3.7	4.35	4,55
Greenen Gréisst(µm)	100/50	100/50	100/50
Prozess	HIP	HIP	HIP

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Chronium Aluminium Silicon Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren. Eis Produkter hunn exzellent mechanesch Eegeschaften, homogen Struktur, poléiert Uewerfläch ouni Segregatioun, Poren oder Rëss. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.

virdrun: CrAlSi Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert gemaach

Nächste: CrAlMo Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made