TiNb Sputtering Target High purity thin film Pvd Coating Custom Made
Titanium Niobium
Tantalum Niobium putris Target Description
Titanium Niobium putris scopum fictum significat per vacuum liquefactionem vel potentiam metallicam. Titanium typicum contentum 66% est (circiter 50 pondus %). Materia superconductivity extraordinaria est et in variis compositis practicis materiis fieri potuit per deformationem conventionalem et processum curationis caloris.
Titanium Niobium Putris Target Packaging
Nostrum Titanium Niobium putris scopo clare tagged et intitulatum extrinsecus ut efficiens identitatem et qualitatem obtineat. Magna cura cavetur ne quodvis damnum quod in repositione vel translatione causari possit.
Adepto Contact
RSM' Titanium Niobium scuta salientis sunt ultra altae puritatis et uniformis. Variae formae, munditiae, magnitudinis et pretia praesto sunt.
Varias formas geometricae supplere potuimus: fistulae, arcus cathodes, planae vel consuetudines factae. Producti nostri praestantes proprietates mechanicas, microstructuram homogeneam, superficiem politam nullis segregationibus, poris, vel rimas agunt.
Lorem in producendo altam puritatem tenuem pellicularum materias efficiens cum praestantia praestantia ac summa densitate ac minimis possibilibus mediocris magnitudinum frumenti ad usum in forma vestium partium vitrearum semi-conductorum tenuium cinematographicarum. resistentia-graphic display、aerospace、 magnetica recording、taucho screen、tenues cinematographici solaris altilium aliasque applicationes vaporum corporis (PVD). Quaeso nobis mitte inquisitionem currentis cursus sapien in scopis salientibus aliisque materiae depositionis non inscriptis.
Products categories
-
CuAl Sputtering Target High puritas tenues pelliculas Pv ...
-
Moni Sputtering Target High Munditia Tenuis Pv ...
-
CrCo Alloy putris Target High puritas Tenues F...
-
WNiCu Sputtering Target High purity thin film P...
-
WNi Sputtering Target High purity thin film Pvd...
-
CoMn Alloy putris Target High Puritas Tenuis F...