Ti Sputtering Target high purity thin film PVD coating custom made
Titanium
Video
Titanium Sputtering Target Description
Titanium est elementum chemicum cum symbolo Ti et numero atomico 22. Metallum transit lucidum cum argenteo colore. Punctum liquefactum est (1660±10)℃, ferveret 3287℃. Habet leve pondus, altum duritiem, corrosionem resistentiae omnibus generibus oeconomiae chlorinae.
Titanium corrosioni marinis resistit, et dissolvere potest in instrumentis acidicis et alkalinis.
Admixtio Titanium late adhibetur in aerospace, chemica machinatione, petroleum, medicina, constructione, et aliis agris suis praestantibus proprietatibus, sicut densitas humilis, scelerisque conductivity et corrosio optima resistentia, weldability et biocompatibilitas.
Titanium hydrogenii, CH4 et Co2 gasorum absorbere potuit, et late in vacuo et ultra-alto systemata vacuo adhibita est. Titanium scopum putris adhiberi potuit ad fabricam retis LSI, VLSI et ULSI ambitus, seu materias metallicas obice.
Titanium Sputtering Target Packaging
Nostrum Titanium stimulum scopo clare tagged et intitulatum extrinsecus ad efficiens identitatem et qualitatem dominii curet. Magna cura cavetur ne quodvis damnum quod in repositione vel translatione causari possit.
Adepto Contact
Titanium putris scuta RSM sunt ultra altae puritatis et uniformis. Variae formae, munditiae, magnitudinis et pretia praesto sunt. Lorem in producendo altam puritatem tenuem pellicularum materias efficiens cum praestantia praestantia ac summa densitate ac minimis possibilibus mediocris magnitudinum frumenti ad usum in forma vestium partium vitrearum semi-conductorum tenuium cinematographicarum. resistentia-graphic display、aerospace、 magnetica recording、taucho screen、tenues cinematographici solaris altilium aliasque applicationes vaporum corporis (PVD). Quaeso nobis mitte inquisitionem currentis cursus sapien in scopis salientibus aliisque materiae depositionis non inscriptis.
