Баарыбызга белгилүү болгондой, максаттуу материалдык технологиянын өнүгүү тенденциясы ылдый агымдагы колдонуу тармагында кино технологиясынын өнүгүү тенденциясы менен тыгыз байланышта. Колдонмо тармагында кино продуктыларын же компоненттерин технологиялык жакшыртуу менен, максаттуу технология да өзгөрүшү керек. Мисалы, Ic өндүрүүчүлөр жакында бир кыйла жакынкы бир нече жыл ичинде баштапкы алюминий пленка алмаштыруу күтүлүүдө төмөн каршылык жез зымдарын өнүктүрүүгө багытталган, ошондуктан жез максаттарды өнүктүрүү жана алардын талап кылынган тоскоолдук максаттары шашылыш болот.
Кошумчалай кетсек, акыркы жылдары жалпак панелдик дисплей (FPD) негизинен катод-нур түтүгүн (CRT) негизделген компьютер дисплейин жана телевизор рыногун алмаштырды. Бул ошондой эле абдан ITO максаттарына техникалык жана рыноктук суроо-талапты жогорулатат. Андан кийин сактоо технологиясы бар. Жогорку тыгыздыктагы, чоң сыйымдуулуктагы катуу дисктерге жана жогорку тыгыздыктагы өчүрүлүүчү дисктерге суроо-талап өсүүдө. Мунун баары колдонуу тармагында максаттуу материалдарга суроо-талаптын өзгөрүшүнө алып келди. Төмөндө биз максаттуу колдонуунун негизги тармактарын жана бул тармактарда максаттын өнүгүү тенденциясын тааныштырабыз.
1. Микроэлектроника
Колдонмо өнөр жайынын бардык тармактарында жарым өткөргүч өнөр жайы максаттуу чачыраткыч пленкалар үчүн эң катуу сапатка талаптарга ээ. Азыр 12 дюймдук (300 эпистаксис) кремний пластиналары чыгарылды. Интерконнекттин туурасы азайып баратат. Кремний пластинкасын өндүрүүчүлөрдүн максаттуу материалдарга койгон талаптары масштабдуу, жогорку тазалык, аз сегрегация жана майда бүртүкчөлөр болуп саналат, бул максаттуу материалдардын жакшыраак микроструктурага ээ болушун талап кылат. Кристаллдык бөлүкчөлөрдүн диаметри жана максаттуу материалдын бирдейлиги пленканын түшүү ылдамдыгына таасир этүүчү негизги факторлор катары каралган.
алюминий менен салыштырганда, жез 0.25um төмөн субмикрон зымдары өткөргүч технологиясы талаптарына жооп бере алат жогорку electromobility каршылык жана төмөнкү каршылык бар, бирок ал башка көйгөйлөрдү алып келет: жез жана органикалык орто материалдардын ортосундагы төмөн адгезия күчү. Мындан тышкары, реакцияга оңой болот, бул жездин дат басуусуна жана чипти колдонууда чынжырдын үзүлүшүнө алып келет. Бул маселени чечүү үчүн жез менен диэлектрдик катмардын ортосунда тосмо катмарын орнотуу керек.
Жездин өз ара байланышынын тосмо катмарында колдонулган максаттуу материалдарга Ta, W, TaSi, WSi ж.б. кирет. Бирок Ta жана W отко чыдамдуу металлдар. Аны жасоо салыштырмалуу кыйын, ал эми молибден жана хром сыяктуу эритмелер альтернативалуу материал катары изилденип жатат.
2. Дисплей үчүн
Жалпак панелдик дисплей (FPD) көп жылдар бою катоддук-нур түтүгү (CRT) негизделген компьютер монитору жана телекөрсөтүү рыногуна чоң таасирин тийгизди, ошондой эле ITO максаттуу материалдарына технологияны жана рыноктук суроо-талапты жогорулатат. Бүгүнкү күндө ITO максаттарынын эки түрү бар. Бири агломерациялоодон кийин индий кычкылынын жана калай кычкылынын порошокунун нанометрдик абалын колдонуу, экинчиси индий калай эритмесин максаттуу колдонуу. ITO пленкасы индий-калай эритмесинин бутасына DC реактивдүү чачыратуу жолу менен жасалышы мүмкүн, бирок максаттуу бет кычкылданат жана чачыратуу ылдамдыгына таасир этет жана чоң өлчөмдөгү эритме бутага алуу кыйын.
Азыркы учурда, биринчи ыкма жалпысынан ITO максаттуу материалды өндүрүү үчүн кабыл алынган, бул магнетрондук чачуу реакциясы менен чачыратуу каптоо. Бул тез депозиттик чен бар. Пленканын калыңдыгын так көзөмөлдөөгө болот, өткөргүчтүк жогору, пленканын консистенциясы жакшы жана субстраттын адгезиясы күчтүү. Бирок максаттуу материалды жасоо кыйын, анткени индий оксиди менен калай оксиди оңой эле биригип кетпейт. Жалпысынан ZrO2, Bi2O3 жана CeO агломерациялоочу кошумчалар катары тандалып алынат жана теориялык маанинин 93% ~ 98% тыгыздыгы менен максаттуу материалды алууга болот. Ушундай жол менен пайда болгон ITO пленкасынын иштеши кошумчалар менен чоң байланышка ээ.
Мындай максаттуу материалды колдонуу менен алынган ITO пленкасынын бөгөт коюу каршылыгы 8,1×10н-смге жетет, бул таза ITO пленкасынын каршылыгына жакын. FPD жана өткөргүч айнек өлчөмү абдан чоң, ал эми өткөргүч айнек туурасы да 3133мм жетиши мүмкүн. Максаттуу материалдарды колдонууну жакшыртуу максатында, цилиндр формасы сыяктуу түрдүү формадагы ITO максаттуу материалдар иштелип чыккан. 2000-жылы Улуттук Өнүктүрүү Пландоо Комиссиясы жана Илим жана Технология министрлиги ИТОнун ири максаттарын азыркы учурда өнүктүрүү үчүн артыкчылыктуу болуп саналган маалымат индустриясынын негизги багыттары боюнча колдонмолорго киргизген.
3. Сактагычты колдонуу
Сактоо технологиясы жагынан жогорку тыгыздыктагы жана чоң сыйымдуулуктагы катуу дисктерди иштеп чыгуу көп сандагы гигант каалабаган пленкалык материалдарды талап кылат. CoF~Cu көп катмарлуу курамдуу пленка ири каалабаган пленканын кеңири колдонулган структурасы. Магниттик диск үчүн зарыл болгон TbFeCo эритмесинин максаттуу материалы дагы деле иштеп чыгууда. TbFeCo менен өндүрүлгөн магниттик диск чоң сактоо сыйымдуулугу, узак кызмат мөөнөтү жана кайра-кайра контактсыз өчүрүлүүчү мүнөздөмөлөргө ээ.
Сурьма германий теллуридине негизделген фазалык өзгөрүүлөр эстутуму (PCM) олуттуу коммерциялык потенциалды көрсөтүп, флеш эс тутумдун жана DRAM рыногуна альтернативдик сактоо технологиясына айланды, бирок ишке ашырууда тезирээк масштабда, бар болуу жолундагы көйгөйлөрдүн бири - кайра орнотуунун жоктугу. учурдагы өндүрүш андан ары толугу менен мөөр бирдигин төмөндөтүүгө болот. Баштапкы абалга келтирүү агымын азайтуу эс тутумдун кубатын керектөөнү азайтат, батареянын иштөө мөөнөтүн узартат жана маалымат өткөрүү жөндөмдүүлүгүн жакшыртат, бүгүнкү күндөгү маалымат борборлоштурулган, өтө көчмө керектөөчү түзмөктөрдөгү бардык маанилүү функциялар.
Посттун убактысы: 09-август-2022