Bi zêdebûna daxwaziya bazarê re, bêtir û bêtir celebên armancên sputtering bi domdarî têne nûve kirin. Hin ji xerîdaran re nas in û hin jî nenas in. Naha, em dixwazin bi we re parve bikin ku celebên armancên şûştina magnetron çi ne.
Hedefa rijandinê ev cûre hene: hedefa kişandina seramîk a metal, hedefa çîpkirina alyozê, hedefa lêxistina seramîk a seramîk, hedefa rijandina seramîk a borîd, hedefa lêxistina seramîk a karbîd, hedefa kişandina seramîk a florîd, hedefa nitrîd seramîk a xiftanînê , Hedefa rijandina seramîk a silicîd, hedefa rijandina seramîk a sulfîd, hedefa rijandina seramîk a telûrîd, hedefên seramîk ên din, hedefa seramîk a oksîdê silicê ya bi kromê dopîkirî (CR SiO), hedefa fosfîdê îndyûm (INP), hedefa arsenîda sereke (pbas), hedefa arsenîda îndyûm (InA) .
Sputtering Magnetron bi gelemperî li du celeb têne dabeş kirin: DC sputtering û RF. Prensîba alavên şûştina DC-ê hêsan e, û rêjeya wê jî dema ku metal diqulipîne zû ye. Sputtering RF bi berfirehî tê bikar anîn. Ji xeynî sputterkirina daneyên guhêrbar, ew dikare daneyên ne-rêveber jî bişopîne. Di heman demê de, mebesta avêtinê di heman demê de sputtera reaktîf jî pêk tîne da ku daneyên tevlihev ên wekî oksîd, nîtrîd û karbîd amade bike. Ger frekansa RF-ê zêde bibe, ew ê bibe pîvaza plazmaya mîkro. Heya nuha, pîvazkirina plazmaya mîkropêla resonansê ya elektron cyclotron (ECR) bi gelemperî tê bikar anîn.
Dema şandinê: Gulan-18-2022