1. Rêbaza kişandina Magnetron:
Sputtering Magnetron dikare li sputtering DC, frekansa navîn û RF veqetandin.
A. Dabînkirina hêza sputtera DC erzan e û tîrêjiya fîlima razandî xizan e. Bi gelemperî, bataryayên fototermîk û fîlima nazik ên navxweyî bi enerjiya kêm têne bikar anîn, û armanca şûştinê jî hedefa metalê ya birêkûpêk e.
B. Enerjiya rijandina RF-ê zêde ye, û mebesta hilavêtinê dikare bibe hedefa ne-rêvebir an jî hedefa gerîdok.
C. Hedefa sputterkirina frekansa navîn dikare bibe armanca seramîk an hedefa metal.
2. Dabeşkirin û sepandina armancên sputtering
Gelek celeb armancên sputtering hene, û rêbazên dabeşkirina armancê jî cûda ne. Li gorî şeklê, ew di hedefa dirêj, hedefa çargoşe û hedefa dorê de têne dabeş kirin; Li gorî berhevokê, ew dikare li hedefa metal, armanca alloy û armanca tevliheviya seramîk were dabeş kirin; Li gorî qadên serîlêdanê yên cihêreng, ew dikare di nav armancên seramîk ên têkildarî nîvconductor de were dabeş kirin, armancên seramîk ên navîn tomar bike, armancên seramîk nîşan bide, hwd. Armancên sputtering bi giranî di pîşesaziyên elektronîkî û agahdariyê de têne bikar anîn, wekî pîşesaziya hilanîna agahdariyan. Di vê pîşesaziyê de, ji bo amadekirina hilberên fîlima tenik ên têkildar (dîska hişk, serê magnetîkî, dîska optîkî, hwd.) armancên sputtering têne bikar anîn. Niha. Bi pêşkeftina domdar a pîşesaziya agahdariyê re, daxwaza tomarkirina armancên seramîk ên navîn li sûkê zêde dibe. Lêkolîn û hilberandina armancên navîn ên tomarkirinê bûye cihê bala berfireh.
Dema şandinê: Gulan-11-2022