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TaNb 스퍼터링 타겟 고순도 박막 Pvd 코팅 맞춤 제작

탄탈륨 니오븀

간단한 설명:

범주

합금 스퍼터링 타겟

화학식

TaNb

구성

탄탈륨 니오븀

청정

99.9%,99.95%,99.99%

모양

플레이트, 컬럼 타겟, 아크 음극, 맞춤형

생산과정

진공 용해

사용 가능한 크기

L≤2000mm, W≤200mm


제품 세부정보

제품 태그

탄탈륨 니오븀 스퍼터링 타겟 설명

탄탈륨 니오븀 스퍼터링 타겟은 탄탈륨과 니오븀을 진공 용융하여 제작됩니다. 이 두 가지는 고융점(탄탈륨 2996℃, 니오븀 2468℃), 고비점(탄탈륨 5427℃, 니오븀 5127℃) 희소금속입니다. 탄탈륨 니오브 합금은 강철과 유사한 외관을 가지며 은회색 광택이 있습니다(분말은 짙은 회색입니다). 내식성, 초전도성, 고온 강도 등 많은 유리한 특성을 가지고 있습니다. 따라서 전자, 유리 및 광학, 항공우주, 의료 기기, 초전도성 및 강철과 같은 탄탈륨 니오븀 합금을 사용하면 모든 응용 분야나 산업에서 이점을 얻을 수 있습니다.

탄탈륨과 니오븀은 인상적인 강도, 내부식성 및 기타 매력적인 특성으로 인해 수년 동안 우주 산업에서 중요한 역할을 해 왔으며 로켓 엔진 및 노즐과 같은 많은 중요한 구성 요소에 사용되었습니다.

탄탈륨 니오브 스퍼터링 타겟 포장

당사의 TaNb 스퍼터 타겟은 효율적인 식별 및 품질 관리를 보장하기 위해 외부에 명확하게 태그 및 라벨이 지정되어 있습니다. 보관이나 운송 중에 발생할 수 있는 손상을 방지하기 위해 세심한 주의를 기울입니다.

연락 받기

RSM의 탄탈륨 니오븀 스퍼터링 타겟은 초고순도 및 균일성을 갖습니다. 다양한 형태, 순도, 크기 및 가격으로 제공됩니다. 금형 코팅, 장식, 자동차 부품, 로이 유리, 반도체 집적 회로, 박막 등에 사용되는 우수한 성능과 최고 밀도 및 최소 평균 입자 크기를 갖춘 고순도 박막 코팅 재료를 전문적으로 생산하고 있습니다. 저항, 그래픽 디스플레이, 항공우주, 자기 기록, 터치 스크린, 박막 태양 전지 및 기타 물리적 기상 증착(PVD) 응용 분야. 목록에 없는 스퍼터링 타겟 및 기타 증착 재료에 대한 현재 가격을 문의하려면 문의해 주세요.


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