NiV 스퍼터링 타겟 고순도 박막 Pvd 코팅 맞춤 제작
니켈바나듐
니켈 바나듐 스퍼터링 타겟 설명
집적회로층 증착에는 금을 사용하는 경우가 많지만, 금이 실리콘과 결합하면 AuSi 저융점 화합물이 형성되는 경우가 많아 층간 느슨함을 유발할 수 있습니다. 순수 니켈은 접착층으로 좋은 선택이며, 확산을 방지하기 위해 니켈과 금층 사이에 배리어층도 필요합니다. 바나듐은 높은 융점과 높은 암페어 밀도를 유지하는 능력으로 이러한 요구 사항을 완벽하게 충족할 수 있습니다. 따라서 니켈, 바나듐 및 금은 일반적으로 집적 회로 산업에 적용되는 세 가지 재료입니다. 니켈 바나듐 스퍼터링 타겟은 용융된 니켈에 바나듐을 첨가하여 제조됩니다. 강자성이 낮기 때문에 니켈 층과 바나듐 층을 한 번에 생산할 수 있는 전자 제품의 마그네트론 스퍼터링에 좋은 선택입니다.
Ni-7V 중량% 불순물 함량
| 청정 | 주요 구성 요소(중량%) | 불순물 화학물질（≤ppm) | 불순물 합계(≤ppm) | ||||||
| V | Fe | Al | Si | C | N | O | S | ||
| 99.99 | 7±0.5 | 20 | 30 | 20 | 100 | 30 | 100 | 20 | 100 |
| 99.95 | 7±0.5 | 200 | 200 | 200 | 100 | 100 | 200 | 50 | 500 |
| 99.9 | 7±0.5 | 300 | 300 | 300 | 100 | 100 | 200 | 50 | 500 |
니켈 바나듐 스퍼터링 타겟 포장
당사의 니켈 바나듐 스퍼터 타겟에는 효율적인 식별과 품질 관리를 보장하기 위해 외부에 명확하게 태그가 지정되어 있습니다. 보관이나 운송 중에 발생할 수 있는 손상을 방지하기 위해 세심한 주의를 기울입니다.
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RSM의 니켈 바나듐 스퍼터링 타겟은 초고순도이며 균일합니다. 다양한 형태, 순도, 크기 및 가격으로 제공됩니다. 금형 코팅, 장식, 자동차 부품, 로이 유리, 반도체 집적 회로, 박막 등에 사용되는 우수한 성능과 최고 밀도 및 최소 평균 입자 크기를 갖춘 고순도 박막 코팅 재료를 전문적으로 생산하고 있습니다. 저항, 그래픽 디스플레이, 항공우주, 자기 기록, 터치 스크린, 박막 태양 전지 및 기타 물리적 기상 증착(PVD) 응용 분야. 목록에 없는 스퍼터링 타겟 및 기타 증착 재료에 대한 현재 가격을 문의하려면 문의해 주세요.
