이제 점점 더 많은 사용자가 대상 유형을 이해하고응용 프로그램이지만 세부 구분이 명확하지 않을 수 있습니다.. 이제RSM 엔지니어 당신과 공유약간의 유도 마그네트론 스퍼터링 타겟.
스퍼터링 타겟: 금속 스퍼터링 코팅 타겟, 합금 스퍼터링 코팅 타겟, 세라믹 스퍼터링 코팅 타겟, 붕화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 탄화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 불화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 질화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 산화물 세라믹 타겟, 셀렌화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 규화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 황화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 텔루르화물 세라믹 스퍼터링 타겟, 기타 세라믹 타겟, 크롬 도핑된 산화규소 세라믹 타겟(CR SiO), 인듐 인화물 타겟(INP), 납 비소 타겟(pbas), 인듐 비소 타겟(InAs).
마그네트론 스퍼터링은 일반적으로 DC 스퍼터링과 RF 스퍼터링의 두 가지 유형으로 구분됩니다. DC 스퍼터링 장비의 원리는 간단하며, 금속 스퍼터링 시 속도도 빠릅니다. RF 스퍼터링이 널리 사용됩니다. 전도성 데이터를 스퍼터링하는 것 외에도 비전도성 데이터를 스퍼터링할 수도 있습니다. 스퍼터링 타겟은 반응성 스퍼터링에도 사용되어 산화물, 질화물, 탄화물과 같은 화합물 데이터를 준비할 수 있습니다. RF 주파수가 증가하면 마이크로파 플라즈마 스퍼터링이 됩니다. 현재 전자 사이클로트론 공명(ECR) 마이크로파 플라즈마 스퍼터링이 일반적으로 사용됩니다.
게시 시간: 2022년 5월 26일