니오브 타겟 물질은 주로 광학 코팅, 표면 공학 소재 코팅 및 내열성, 내식성, 고전도성 코팅 산업에 사용됩니다. 광학 코팅 분야에서는 주로 안과 광학 제품, 렌즈, 정밀 광학, 대면적 코팅, 3D 코팅 및 기타 측면에 적용됩니다.
니오븀 타겟 물질은 일반적으로 베어 타겟(Bare Target)이라고 불립니다. 먼저 구리 백 타겟에 용접한 다음 스퍼터링하여 기판 재료에 산화물 형태로 니오브 원자를 증착하여 스퍼터링 코팅을 달성합니다. 니오븀 타겟 기술과 응용이 지속적으로 심화되고 확장됨에 따라 니오븀 타겟 미세 구조의 균일성에 대한 요구 사항이 증가했으며 주로 입자 크기 미세화, 명백한 질감 방향 없음 및 향상된 화학적 순도의 세 가지 측면에서 나타납니다.
니오븀 타겟 재료의 스퍼터링 성능을 보장하려면 타겟 전체에 걸쳐 미세 구조와 특성의 균일한 분포가 중요합니다. 산업 생산에서 발견되는 니오브 타겟의 표면은 일반적으로 타겟의 스퍼터링 성능에 큰 영향을 미치는 규칙적인 패턴을 나타냅니다. 목표의 활용률을 어떻게 향상시킬 수 있습니까?
연구를 통해 불순물 함량(타겟 순도)이 순도에 영향을 미치는 중요한 요소임이 밝혀졌습니다. 원료의 화학적 조성이 고르지 않고 불순물이 풍부합니다. 이후의 압연 가공 후 니오븀 타겟재의 표면에 규칙적인 패턴이 형성되며, 원료 성분의 고르지 못한 분포와 불순물 농축을 제거하면 니오븀 타겟 표면에 규칙적인 패턴이 형성되는 것을 방지할 수 있습니다. 대상 물질에 대한 입자 크기 및 구조적 구성의 영향은 거의 무시할 수 있습니다.
게시 시간: 2023년 6월 19일