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고순도 텅스텐 타겟 제조기술 및 응용
23-02-15에 관리자가 작성
내화성 텅스텐 및 텅스텐 합금의 높은 온도 안정성, 높은 전자 이동 저항 및 높은 전자 방출 계수로 인해 고순도 텅스텐 및 텅스텐 합금 타겟은 주로 게이트 전극, 연결 배선, 확산 장벽 제조에 사용됩니다.
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고엔트로피 합금 스퍼터링 타겟
2010년 2월 23일 관리자가 작성
고엔트로피 합금(HEA)은 최근 몇 년 동안 개발된 새로운 유형의 금속 합금입니다. 그 구성은 5개 이상의 금속 원소로 구성됩니다. HEA는 두 개 이상의 주요 원소를 포함하는 금속 합금인 MPEA(Multi Primary Metal Alloys)의 하위 집합입니다. MPEA와 마찬가지로 HEA도 탁월한 성능으로 유명합니다.
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스퍼터링 타겟 – 니켈 크롬 타겟
2001년 2월 23일 관리자에 의해
타겟(Target)은 박막 제조에 있어 핵심 기초 소재입니다. 현재 일반적으로 사용되는 타겟 준비 및 가공 방법에는 주로 분말 야금 기술과 전통적인 합금 제련 기술이 포함되며, 우리는 보다 기술적이고 비교적 새로운 진공 제련 기술을 채택합니다.
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Ni-Cr-Al-Y 스퍼터링 타겟
23-01-14에 관리자가 작성
새로운 유형의 합금 재료로서 니켈-크롬-알루미늄-이트륨 합금은 항공 및 우주 항공, 자동차 및 선박의 가스 터빈 블레이드, 고압 터빈 쉘, 등 내열성이 우수하여 ...
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Carbon(열분해 흑연) 타겟 도입 및 응용
22-12-14에 관리자가 작성
흑연 타겟은 등방성 흑연과 열분해 흑연으로 구분됩니다. RSM 편집자가 열분해 흑연을 자세히 소개합니다. 열분해 흑연은 새로운 유형의 탄소 재료입니다. 화학 증기에 의해 표면에 증착된 결정 배향이 높은 열분해 탄소입니다.
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텅스텐 카바이드 스퍼터링 타겟
2009년 12월 22일 관리자가 작성
텅스텐 카바이드(화학식: WC)는 텅스텐과 탄소 원자가 같은 비율로 포함된 화합물(정확하게는 카바이드)입니다. 가장 기본적인 형태의 텅스텐 카바이드는 미세한 회색 분말이지만 압축하여 산업 기계, 절삭 공구 등에 사용하기 위한 형태로 성형할 수 있습니다.
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철 스퍼터링 타겟의 도입 및 응용
2007년 12월 22일 관리자가 작성
최근 고객이 제품을 와인 레드로 칠하고 싶어 했습니다. 그는 RSM의 기술자에게 순철 스퍼터링 타겟에 대해 문의했습니다. 이제 철 스퍼터링 타겟에 대한 지식을 여러분과 공유해 보겠습니다. 철 스퍼터링 타겟은 고순도 철 금속으로 구성된 금속 고체 타겟입니다. 철...
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AZO 스퍼터링 타겟 적용
22-11-23에 관리자가 작성
AZO 스퍼터링 타겟은 알루미늄 도핑된 산화아연 스퍼터링 타겟이라고도 합니다. 알루미늄이 첨가된 산화아연은 투명 전도성 산화물입니다. 이 산화물은 물에 녹지 않지만 열적으로 안정합니다. AZO 스퍼터링 타겟은 일반적으로 박막 증착에 사용됩니다. 그렇다면 어떤 종류의 스퍼터링 타겟이...
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고엔트로피 합금의 제조방법
22-11-18에 관리자가 작성
최근 많은 고객들이 고엔트로피 합금에 대해 문의하고 있습니다. 고엔트로피 합금의 제조방법은 무엇입니까? 이제 RSM 편집자가 이를 여러분과 공유해 보겠습니다. 고엔트로피 합금의 제조 방법은 액체 혼합, 고체 혼합의 세 가지 주요 방법으로 나눌 수 있습니다.
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반도체 칩 스퍼터링 타겟 적용
22-11-16에 관리자가 작성
리치특수소재(주)는 반도체 산업용 고순도 알루미늄 스퍼터링 타겟, 구리 스퍼터링 타겟, 탄탈륨 스퍼터링 타겟, 티타늄 스퍼터링 타겟 등을 생산할 수 있습니다. 반도체 칩은 스퍼터링 공정에 대한 높은 기술 요구 사항과 높은 가격을 가지고 있습니다.
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알루미늄 스칸듐 합금
22-11-11에 관리자가 작성
필름 기반 압전 MEMS(pMEMS) 센서 및 무선 주파수(RF) 필터 부품 산업을 지원하기 위해 (주)리치특수소재에서 제조한 알루미늄 스칸듐 합금을 스칸듐 도핑된 질화알루미늄 필름의 반응성 증착에 특별히 사용합니다. . 그...
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ITO 스퍼터링 타겟 적용
2009년 11월 22일 관리자가 작성
우리 모두가 알고 있듯이 스퍼터링 타겟 재료의 기술 발전 추세는 응용 산업의 박막 기술 발전 추세와 밀접한 관련이 있습니다. 응용산업의 필름 제품이나 부품의 기술이 향상됨에 따라 대상 기술은 다음과 같습니다.
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