스퍼터링된 몰리브덴 타겟은 고유한 장점으로 인해 전자 산업, 태양 전지, 유리 코팅 및 기타 분야에서 널리 사용되었습니다. 소형화, 통합, 디지털화 및 지능화 분야의 현대 기술이 급속히 발전함에 따라 몰리브덴 타겟의 사용이 계속 증가할 것이며 이에 대한 품질 요구 사항도 점점 더 높아질 것입니다. 따라서 우리는 몰리브덴 목표의 활용률을 향상시킬 수 있는 방법을 찾아야 합니다. 이제 RSM 편집자는 모든 사람을 위해 스퍼터링 몰리브덴 타겟의 활용률을 향상시키는 몇 가지 방법을 소개합니다.
1. 뒷면에 전자기 코일 추가
스퍼터링된 몰리브덴 타겟의 활용률을 높이기 위해 평면형 마그네트론 스퍼터링 몰리브덴 타겟의 뒷면에 전자기 코일을 추가할 수 있으며, 전류를 증가시켜 몰리브덴 타겟 표면의 자기장을 증가시킬 수 있습니다. 전자기 코일을 사용하여 몰리브덴 타겟의 활용률을 향상시킵니다.
2. 관형 회전 대상 물질을 선택하십시오
평평한 타겟과 비교하여 관형 회전 타겟 구조를 선택하면 실질적인 이점이 강조됩니다. 일반적으로 평면 타겟의 활용률은 30~50%에 불과한 반면, 관형 회전 타겟의 활용률은 80% 이상에 도달할 수 있습니다. 또한, 회전형 중공관 마그네트론 스퍼터링 타겟을 사용하는 경우 타겟이 고정 막대 자석 조립체 주위를 항상 회전할 수 있으므로 표면에 재침착이 발생하지 않으므로 회전 타겟의 수명이 일반적으로 5배 이상 길어집니다. 비행기 표적의 것보다.
3. 새로운 스퍼터링 장비로 교체
타겟재 활용률 향상의 관건은 스퍼터링 장비 교체를 완료하는 것이다. 몰리브덴 스퍼터링 타겟 재료의 스퍼터링 공정 중에 스퍼터링 원자의 약 1/6이 수소 이온에 부딪힌 후 진공 챔버 벽이나 브래킷에 증착되어 진공 장비 청소 비용과 가동 중지 시간이 증가합니다. 따라서 새로운 스퍼터링 장비를 교체하면 스퍼터링 몰리브덴 타겟의 활용률을 향상시키는 데 도움이 될 수도 있습니다.
게시 시간: 2023년 5월 24일