증발 코팅과 스퍼터링 코팅의 차이점

우리 모두 알고 있듯이 진공 코팅에는 진공 증발 및 이온 스퍼터링이 일반적으로 사용됩니다. 증발 코팅과 스퍼터링 코팅의 차이점은 무엇입니까? 다음으로 RSM의 기술 전문가들이 우리와 공유할 것입니다.

진공증착코팅은 진공도 10-2Pa 이상의 환경에서 저항가열이나 전자빔, 레이저 충격을 이용하여 증발하고자 하는 물질을 특정 온도까지 가열하여 분자의 열진동 에너지나 재료의 원자가 표면의 결합 에너지를 초과하여 많은 수의 분자 또는 원자가 증발하거나 승화하고 기판에 직접 침전되어 필름을 형성합니다. 이온 스퍼터링 코팅은 전기장의 작용으로 가스 방전에 의해 생성된 양이온의 고속 이동을 사용하여 타겟에 음극으로 충격을 가하여 타겟의 원자 또는 분자가 도금된 공작물의 표면으로 탈출하여 석출되어 형성됩니다. 필요한 영화.

진공증착코팅의 가장 일반적으로 사용되는 방법은 저항가열 방식으로, 구조가 간단하고 비용이 저렴하며 작동이 편리한 장점이 있습니다. 단점은 내화 금속 및 고온 내성 유전체 재료에는 적합하지 않다는 것입니다. 전자빔 가열과 레이저 가열은 저항 가열의 단점을 극복할 수 있습니다. 전자빔 가열에서는 집속된 전자빔을 이용하여 충격을 받은 물질을 직접 가열하는데, 전자빔의 운동에너지가 열에너지가 되어 물질을 증발시킨다. 레이저 가열은 고출력 레이저를 가열원으로 사용하지만 고출력 레이저의 가격이 높기 때문에 현재 일부 연구 실험실에서만 사용할 수 있습니다.

스퍼터링 기술은 진공증착 기술과 다릅니다. "스퍼터링"이란 대전 입자가 고체 표면(타겟)에 충돌하여 고체 원자나 분자가 표면에서 튀어나오는 현상을 말합니다. 방출된 입자의 대부분은 원자 상태에 있으며, 이를 종종 스퍼터링 원자라고 합니다. 타겟에 충격을 가하는 데 사용되는 스퍼터링 입자는 전자, 이온 또는 중성 입자일 수 있습니다. 이온은 필요한 운동 에너지를 얻기 위해 전기장 하에서 가속되기 쉽기 때문에 대부분 이온을 충격 입자로 사용합니다. 스퍼터링 공정은 글로우 방전을 기반으로 합니다. 즉, 스퍼터링 이온은 가스 방전에서 나옵니다. 다양한 스퍼터링 기술은 다양한 글로우 방전 모드를 채택합니다. DC 다이오드 스퍼터링은 DC 글로우 방전을 사용합니다. 삼극관 스퍼터링은 열음극에 의해 지원되는 글로우 방전입니다. RF 스퍼터링은 RF 글로우 방전을 사용합니다. 마그네트론 스퍼터링은 환형 자기장에 의해 제어되는 글로우 방전입니다.

진공증착코팅에 비해 스퍼터링코팅은 많은 장점을 가지고 있습니다. 예를 들어, 모든 물질, 특히 융점이 높고 증기압이 낮은 원소 및 화합물이 스퍼터링될 수 있습니다. 스퍼터링된 필름과 기판 사이의 접착력이 좋습니다. 높은 필름 밀도; 필름 두께를 조절할 수 있고 반복성이 좋습니다. 단점은 장비가 복잡하고 고전압 장치가 필요하다는 것입니다.

또한 증발법과 스퍼터링법을 조합한 것이 이온플레이팅이다. 이 방법의 장점은 얻은 필름이 기판과의 강한 접착력, 높은 증착 속도 및 높은 필름 밀도를 갖는다는 것입니다.