ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಕೋಟಿಂಗ್ ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳಲ್ಲಿ ಸಂಶೋಧನೆ ಪ್ರಗತಿ

ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹವು ನಿರ್ವಾತ ಶೇಖರಣೆಗಾಗಿ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಯಾಗಿದೆ. ಈ ಮಿಶ್ರಲೋಹದಲ್ಲಿ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಮತ್ತು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂನ ವಿಷಯವನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸುವ ಮೂಲಕ ವಿಭಿನ್ನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು. ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಇಂಟರ್ಮೆಟಾಲಿಕ್ ಸಂಯುಕ್ತಗಳು ಉತ್ತಮ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಮತ್ತು ಸುಲಭವಾಗಿ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿವೆ. ಅವುಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯ ಕತ್ತರಿಸುವ ಉಪಕರಣಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಇಂಟರ್ಮೆಟಾಲಿಕ್ ಸಂಯುಕ್ತಗಳ ಪದರದಿಂದ ಲೇಪಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಉಪಕರಣಗಳ ಸೇವಾ ಜೀವನವನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತದೆ. ನೈಟ್ರೋಜನ್ ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಆರ್ಕ್ ಪ್ರಾರಂಭದೊಂದಿಗೆ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಅನ್ನು ನಡೆಸಿದರೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಘರ್ಷಣೆಯ ಗುಣಾಂಕದ ಮೇಲ್ಮೈ ಮುಖದ ಮುಖವಾಡವನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು, ಇದು ವಿವಿಧ ಉಪಕರಣಗಳು, ಅಚ್ಚುಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ದುರ್ಬಲ ಭಾಗಗಳ ಮೇಲ್ಮೈ ಲೇಪನಕ್ಕೆ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಇದು ಯಂತ್ರ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ನಿರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.

ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಷ್ಟಕರವಾಗಿದೆ. ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಹಂತದ ರೇಖಾಚಿತ್ರದ ಪ್ರಕಾರ, ಟೈಟಾನಿಯಂ ಮತ್ತು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ನಡುವೆ ವಿವಿಧ ಇಂಟರ್ಮೆಟಾಲಿಕ್ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ರಚಿಸಬಹುದು, ಇದು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹದಲ್ಲಿ ಸಂಸ್ಕರಣೆಯ ದುರ್ಬಲತೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮಿಶ್ರಲೋಹದಲ್ಲಿನ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಅಂಶವು 50% (ಪರಮಾಣು ಅನುಪಾತ) ಮೀರಿದಾಗ, ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಉತ್ಕರ್ಷಣ ಪ್ರತಿರೋಧವು ಇದ್ದಕ್ಕಿದ್ದಂತೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣವು ತೀವ್ರವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿನ ಎಕ್ಸೋಥರ್ಮಿಕ್ ವಿಸ್ತರಣೆಯು ಸುಲಭವಾಗಿ ಗುಳ್ಳೆಗಳು, ಕುಗ್ಗುವಿಕೆ ರಂಧ್ರಗಳು ಮತ್ತು ಸರಂಧ್ರತೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸರಂಧ್ರತೆ ಮತ್ತು ಗುರಿ ವಸ್ತುವಿನ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಲು ಅಸಮರ್ಥತೆ ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ. ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಎರಡು ಮುಖ್ಯ ವಿಧಾನಗಳಿವೆ:

1, ಬಲವಾದ ಪ್ರಸ್ತುತ ತಾಪನ ವಿಧಾನ

ಈ ವಿಧಾನವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರವಾಹವನ್ನು ಪಡೆಯುವ ಸಾಧನವನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಪುಡಿ ಮತ್ತು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಪುಡಿಯನ್ನು ಬಿಸಿಮಾಡುತ್ತದೆ, ಒತ್ತಡವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮತ್ತು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನದಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾದ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿ ಉತ್ಪನ್ನದ ಸಾಂದ್ರತೆಯು>99%, ಮತ್ತು ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರವು ≤ 100 μm ಆಗಿದೆ. ಶುದ್ಧತೆ>99%. ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿ ವಸ್ತುವಿನ ಸಂಯೋಜನೆಯ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು: ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಂಶವು 5% ರಿಂದ 75% (ಪರಮಾಣು ಅನುಪಾತ), ಮತ್ತು ಉಳಿದವು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಅಂಶವಾಗಿದೆ. ಈ ವಿಧಾನವು ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಉತ್ಪನ್ನ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಪೂರೈಸುತ್ತದೆ.

2, ಹಾಟ್ ಐಸೊಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಪ್ರೆಸ್ಸಿಂಗ್ ಸಿಂಟರಿಂಗ್ ವಿಧಾನ

ಈ ವಿಧಾನವು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಪೌಡರ್ ಮತ್ತು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಪೌಡರ್ ಅನ್ನು ಮಿಶ್ರಣ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ನಂತರ ಪೌಡರ್ ಲೋಡಿಂಗ್, ಕೋಲ್ಡ್ ಐಸೊಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಪ್ರೆಸ್ಸಿಂಗ್ ಪ್ರಿ ಪ್ರೆಸ್ಸಿಂಗ್, ಡಿಗ್ಯಾಸಿಂಗ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಮತ್ತು ನಂತರ ಬಿಸಿ ಐಸೊಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಪ್ರೆಸ್ಸಿಂಗ್ ರಚನೆಗೆ ಒಳಗಾಗುತ್ತದೆ. ಅಂತಿಮವಾಗಿ, ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಲು ಸಿಂಟರಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಸಂಸ್ಕರಣೆಯನ್ನು ಕೈಗೊಳ್ಳಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನದಿಂದ ತಯಾರಾದ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಂದ್ರತೆ, ರಂಧ್ರಗಳಿಲ್ಲ, ಸರಂಧ್ರತೆ ಮತ್ತು ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆ, ಏಕರೂಪದ ಸಂಯೋಜನೆ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಧಾನ್ಯಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಬಿಸಿ ಐಸೊಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಪ್ರೆಸ್ಸಿಂಗ್ ವಿಧಾನವು ಪ್ರಸ್ತುತ ಲೇಪನ ಉದ್ಯಮಕ್ಕೆ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಮುಖ್ಯ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ.