ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್, ಡಿಸ್ಪ್ಲೇಗಳು, ಇಂಧನ ಕೋಶಗಳು ಅಥವಾ ವೇಗವರ್ಧಕ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಂತಹ ತಾಂತ್ರಿಕ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸುವ ಮೊದಲು ಅನೇಕ ಲೋಹಗಳು ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳಾಗಿ ಮಾಡಬೇಕು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಪ್ಲಾಟಿನಮ್, ಇರಿಡಿಯಮ್, ರುಥೇನಿಯಮ್ ಮತ್ತು ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ನಂತಹ ಅಂಶಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ "ನಿರೋಧಕ" ಲೋಹಗಳು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳಾಗಿ ಬದಲಾಗುವುದು ಕಷ್ಟಕರವಾಗಿದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಅವುಗಳನ್ನು ಆವಿಯಾಗಿಸಲು ಅತ್ಯಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನಗಳು (ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 2,000 ಡಿಗ್ರಿ ಸೆಲ್ಸಿಯಸ್‌ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು) ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ.
ವಿಶಿಷ್ಟವಾಗಿ, ವಿಜ್ಞಾನಿಗಳು ಈ ಲೋಹೀಯ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯಂತಹ ವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಸಂಶ್ಲೇಷಿಸುತ್ತಾರೆ. ಎರಡನೆಯದು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಲೋಹದ ಕರಗುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಪ್ಲೇಟ್ ಮೇಲೆ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ನ ರಚನೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಈ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ವಿಧಾನವು ದುಬಾರಿಯಾಗಿದೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಬಳಸಿದ ಕಾರಣ ಅಸುರಕ್ಷಿತವಾಗಿದೆ.
ಈ ಲೋಹಗಳನ್ನು ಲೆಕ್ಕವಿಲ್ಲದಷ್ಟು ಉತ್ಪನ್ನಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಲು ಕಂಪ್ಯೂಟರ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗಾಗಿ ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್‌ಗಳಿಂದ. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಪ್ಲಾಟಿನಂ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಶಕ್ತಿಯ ಪರಿವರ್ತನೆ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ವೇಗವರ್ಧಕವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇದನ್ನು ಸ್ಪಿಂಟ್ರೋನಿಕ್ಸ್ ಸಾಧನಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗುತ್ತಿದೆ.
ಪೋಸ್ಟ್ ಸಮಯ: ಏಪ್ರಿಲ್-26-2023