ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್, ಪ್ರದರ್ಶನ ಮತ್ತು ಇತರ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್

ನಮಗೆಲ್ಲರಿಗೂ ತಿಳಿದಿರುವಂತೆ, ಗುರಿ ವಸ್ತು ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಪ್ರವೃತ್ತಿಯು ಡೌನ್‌ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಚಲನಚಿತ್ರ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಪ್ರವೃತ್ತಿಯೊಂದಿಗೆ ನಿಕಟ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿದೆ. ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಚಲನಚಿತ್ರ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು ಅಥವಾ ಘಟಕಗಳ ತಾಂತ್ರಿಕ ಸುಧಾರಣೆಯೊಂದಿಗೆ, ಗುರಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವೂ ಬದಲಾಗಬೇಕು. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, Ic ತಯಾರಕರು ಇತ್ತೀಚೆಗೆ ಕಡಿಮೆ ಪ್ರತಿರೋಧದ ತಾಮ್ರದ ವೈರಿಂಗ್‌ನ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸಿದ್ದಾರೆ, ಇದು ಮುಂದಿನ ಕೆಲವು ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ ಮೂಲ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಗಣನೀಯವಾಗಿ ಬದಲಾಯಿಸುವ ನಿರೀಕ್ಷೆಯಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ತಾಮ್ರದ ಗುರಿಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ಅಗತ್ಯ ತಡೆಗೋಡೆ ಗುರಿಗಳು ತುರ್ತು.

ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಇತ್ತೀಚಿನ ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ, ಫ್ಲಾಟ್ ಪ್ಯಾನೆಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ (FPD) ಕ್ಯಾಥೋಡ್-ರೇ ಟ್ಯೂಬ್ (CRT) ಆಧಾರಿತ ಕಂಪ್ಯೂಟರ್ ಪ್ರದರ್ಶನ ಮತ್ತು ದೂರದರ್ಶನ ಮಾರುಕಟ್ಟೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಬದಲಿಸಿದೆ. ಇದು ITO ಗುರಿಗಳಿಗೆ ತಾಂತ್ರಿಕ ಮತ್ತು ಮಾರುಕಟ್ಟೆ ಬೇಡಿಕೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ತದನಂತರ ಶೇಖರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಿದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಂದ್ರತೆ, ದೊಡ್ಡ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಹಾರ್ಡ್ ಡ್ರೈವ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ಅಳಿಸಬಹುದಾದ ಡಿಸ್ಕ್‌ಗಳಿಗೆ ಬೇಡಿಕೆ ಹೆಚ್ಚುತ್ತಲೇ ಇದೆ. ಇವೆಲ್ಲವೂ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳ ಬೇಡಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಬದಲಾವಣೆಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿವೆ. ಕೆಳಗಿನವುಗಳಲ್ಲಿ, ನಾವು ಗುರಿಯ ಮುಖ್ಯ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳನ್ನು ಮತ್ತು ಈ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಗುರಿಯ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಪ್ರವೃತ್ತಿಯನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸುತ್ತೇವೆ.

　　1. ಮೈಕ್ರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್

ಎಲ್ಲಾ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಉದ್ಯಮಗಳಲ್ಲಿ, ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಉದ್ಯಮವು ಟಾರ್ಗೆಟ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳಿಗೆ ಅತ್ಯಂತ ಕಠಿಣ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. 12 ಇಂಚಿನ (300 ಎಪಿಸ್ಟಾಕ್ಸಿಸ್) ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್‌ಗಳನ್ನು ಈಗ ತಯಾರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಪರಸ್ಪರ ಸಂಪರ್ಕದ ಅಗಲವು ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತಿದೆ. ಉದ್ದೇಶಿತ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್ ತಯಾರಕರ ಅಗತ್ಯತೆಗಳು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ, ಕಡಿಮೆ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮವಾದ ಧಾನ್ಯಗಳಾಗಿವೆ, ಇದು ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳು ಉತ್ತಮ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ರಚನೆಯನ್ನು ಹೊಂದಲು ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಸ್ಫಟಿಕದಂತಹ ಕಣದ ವ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಗುರಿಯ ವಸ್ತುವಿನ ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಫಿಲ್ಮ್ ಠೇವಣಿ ದರದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಪ್ರಮುಖ ಅಂಶಗಳೆಂದು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗಿದೆ.

ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂನೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, ತಾಮ್ರವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಮೊಬಿಲಿಟಿ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಇದು 0.25um ಕೆಳಗಿನ ಸಬ್ಮಿಕ್ರಾನ್ ವೈರಿಂಗ್ನಲ್ಲಿ ಕಂಡಕ್ಟರ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಇದು ಇತರ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ತರುತ್ತದೆ: ತಾಮ್ರ ಮತ್ತು ಸಾವಯವ ಮಧ್ಯಮ ವಸ್ತುಗಳ ನಡುವೆ ಕಡಿಮೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ. ಇದಲ್ಲದೆ, ಇದು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಲು ಸುಲಭವಾಗಿದೆ, ಇದು ತಾಮ್ರದ ಇಂಟರ್ಕನೆಕ್ಟ್ನ ತುಕ್ಕುಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಚಿಪ್ನ ಬಳಕೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ಒಡೆಯುವಿಕೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಲು, ತಾಮ್ರ ಮತ್ತು ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಪದರದ ನಡುವೆ ತಡೆಗೋಡೆ ಪದರವನ್ನು ಹೊಂದಿಸಬೇಕು.

ತಾಮ್ರದ ಅಂತರ್ಸಂಪರ್ಕದ ತಡೆಗೋಡೆ ಪದರದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳು Ta, W, TaSi, WSi, ಇತ್ಯಾದಿ. ಆದರೆ Ta ಮತ್ತು W ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಲೋಹಗಳಾಗಿವೆ. ಇದನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಷ್ಟ, ಮತ್ತು ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಮತ್ತು ಕ್ರೋಮಿಯಂನಂತಹ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳನ್ನು ಪರ್ಯಾಯ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತಿದೆ.

　　2. ಪ್ರದರ್ಶನಕ್ಕಾಗಿ

ಫ್ಲಾಟ್ ಪ್ಯಾನೆಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ (ಎಫ್‌ಪಿಡಿ) ಕ್ಯಾಥೋಡ್-ರೇ ಟ್ಯೂಬ್ (ಸಿಆರ್‌ಟಿ) ಆಧಾರಿತ ಕಂಪ್ಯೂಟರ್ ಮಾನಿಟರ್ ಮತ್ತು ಟೆಲಿವಿಷನ್ ಮಾರುಕಟ್ಟೆಯನ್ನು ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚು ಪ್ರಭಾವಿಸಿದೆ ಮತ್ತು ಐಟಿಒ ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಮತ್ತು ಮಾರುಕಟ್ಟೆ ಬೇಡಿಕೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ಇಂದು ಎರಡು ರೀತಿಯ ITO ಗುರಿಗಳಿವೆ. ಒಂದು ಸಿಂಟರ್ ಮಾಡಿದ ನಂತರ ಇಂಡಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಮತ್ತು ಟಿನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪುಡಿಯ ನ್ಯಾನೊಮೀಟರ್ ಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ಬಳಸುವುದು, ಇನ್ನೊಂದು ಇಂಡಿಯಮ್ ಟಿನ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿಯನ್ನು ಬಳಸುವುದು. ಇಂಡಿಯಮ್-ಟಿನ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿಯ ಮೇಲೆ DC ರಿಯಾಕ್ಟಿವ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಮೂಲಕ ITO ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ತಯಾರಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಗುರಿ ಮೇಲ್ಮೈ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ದರವನ್ನು ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ ಗಾತ್ರದ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿಯನ್ನು ಪಡೆಯುವುದು ಕಷ್ಟ.

ಇತ್ತೀಚಿನ ದಿನಗಳಲ್ಲಿ, ಐಟಿಒ ಗುರಿ ವಸ್ತುವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಮೊದಲ ವಿಧಾನವನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲಾಗಿದೆ, ಇದು ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಲೇಪನವಾಗಿದೆ. ಇದು ವೇಗದ ಠೇವಣಿ ದರವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪವನ್ನು ನಿಖರವಾಗಿ ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದು, ವಾಹಕತೆ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಚಿತ್ರದ ಸ್ಥಿರತೆ ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯು ಬಲವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಆದರೆ ಉದ್ದೇಶಿತ ವಸ್ತುವನ್ನು ತಯಾರಿಸುವುದು ಕಷ್ಟ, ಏಕೆಂದರೆ ಇಂಡಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಮತ್ತು ಟಿನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಸುಲಭವಾಗಿ ಒಟ್ಟಿಗೆ ಸಿಂಟರ್ ಆಗುವುದಿಲ್ಲ. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ZrO2, Bi2O3 ಮತ್ತು CeO ಅನ್ನು ಸಿಂಟರಿಂಗ್ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳಾಗಿ ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಮೌಲ್ಯದ 93%~98% ಸಾಂದ್ರತೆಯೊಂದಿಗೆ ಗುರಿ ವಸ್ತುವನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು. ಈ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ITO ಫಿಲ್ಮ್ನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯು ಸೇರ್ಪಡೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಉತ್ತಮ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.

ಅಂತಹ ಗುರಿ ವಸ್ತುವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಪಡೆದ ITO ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ತಡೆಯುವ ಪ್ರತಿರೋಧವು 8.1×10n-cm ತಲುಪುತ್ತದೆ, ಇದು ಶುದ್ಧ ITO ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಪ್ರತಿರೋಧಕತೆಗೆ ಹತ್ತಿರದಲ್ಲಿದೆ. FPD ಮತ್ತು ವಾಹಕ ಗಾಜಿನ ಗಾತ್ರವು ಸಾಕಷ್ಟು ದೊಡ್ಡದಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ವಾಹಕ ಗಾಜಿನ ಅಗಲವು 3133mm ಅನ್ನು ಸಹ ತಲುಪಬಹುದು. ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವ ಸಲುವಾಗಿ, ಸಿಲಿಂಡರಾಕಾರದ ಆಕಾರದಂತಹ ವಿವಿಧ ಆಕಾರಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ITO ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ. 2000 ರಲ್ಲಿ, ರಾಷ್ಟ್ರೀಯ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಯೋಜನಾ ಆಯೋಗ ಮತ್ತು ವಿಜ್ಞಾನ ಮತ್ತು ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಸಚಿವಾಲಯವು ಪ್ರಸ್ತುತ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಆದ್ಯತೆ ನೀಡುತ್ತಿರುವ ಮಾಹಿತಿ ಉದ್ಯಮದ ಪ್ರಮುಖ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳ ಮಾರ್ಗಸೂಚಿಗಳಲ್ಲಿ ITO ದೊಡ್ಡ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸಿದೆ.

　　3. ಶೇಖರಣಾ ಬಳಕೆ

ಶೇಖರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ವಿಷಯದಲ್ಲಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಹಾರ್ಡ್ ಡಿಸ್ಕ್‌ಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಂಖ್ಯೆಯ ದೈತ್ಯ ಹಿಂಜರಿಕೆಯ ಚಲನಚಿತ್ರ ಸಾಮಗ್ರಿಗಳು ಬೇಕಾಗುತ್ತವೆ. CoF~Cu ಬಹುಪದರದ ಸಂಯೋಜಿತ ಫಿಲ್ಮ್ ದೈತ್ಯ ಹಿಂಜರಿಕೆಯ ಚಿತ್ರದ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ರಚನೆಯಾಗಿದೆ. ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ಡಿಸ್ಕ್‌ಗೆ ಅಗತ್ಯವಿರುವ TbFeCo ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿ ವಸ್ತುವು ಇನ್ನೂ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯಲ್ಲಿದೆ. TbFeCo ನೊಂದಿಗೆ ತಯಾರಿಸಲಾದ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ಡಿಸ್ಕ್ ದೊಡ್ಡ ಶೇಖರಣಾ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ, ದೀರ್ಘ ಸೇವಾ ಜೀವನ ಮತ್ತು ಪುನರಾವರ್ತಿತ ಸಂಪರ್ಕ-ಅಲ್ಲದ ಅಳಿಸುವಿಕೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.

ಆಂಟಿಮನಿ ಜರ್ಮೇನಿಯಮ್ ಟೆಲ್ಯುರೈಡ್ ಆಧಾರಿತ ಹಂತದ ಬದಲಾವಣೆ ಮೆಮೊರಿ (PCM) ಗಮನಾರ್ಹವಾದ ವಾಣಿಜ್ಯ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ, NOR ಫ್ಲ್ಯಾಷ್ ಮೆಮೊರಿಯ ಭಾಗವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು DRAM ಮಾರುಕಟ್ಟೆ ಪರ್ಯಾಯ ಶೇಖರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿದೆ, ಆದಾಗ್ಯೂ, ಅನುಷ್ಠಾನದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚು ವೇಗವಾಗಿ ಅಳೆಯುವ ಮೂಲಕ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ರಸ್ತೆಯಲ್ಲಿರುವ ಸವಾಲುಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದನ್ನು ಮರುಹೊಂದಿಸಲು ಕೊರತೆಯಿದೆ. ಪ್ರಸ್ತುತ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಮೊಹರು ಘಟಕವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದು. ರೀಸೆಟ್ ಕರೆಂಟ್ ಅನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವುದರಿಂದ ಮೆಮೊರಿ ಶಕ್ತಿಯ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಬ್ಯಾಟರಿ ಅವಧಿಯನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಡೇಟಾ ಬ್ಯಾಂಡ್‌ವಿಡ್ತ್ ಅನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ಇಂದಿನ ಡೇಟಾ-ಕೇಂದ್ರಿತ, ಹೆಚ್ಚು ಪೋರ್ಟಬಲ್ ಗ್ರಾಹಕ ಸಾಧನಗಳಲ್ಲಿನ ಎಲ್ಲಾ ಪ್ರಮುಖ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳು.